中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843R #9270795 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843Rは、半導体製造および蒸着用途向けに開発された原子炉です。この原子炉は、高度な半導体デバイスの製造に必要な高品質のエッチングおよび蒸着プロセスを提供するように設計されています。高性能の真空とさまざまなガス噴射機能を組み合わせて、エッチングと蒸着パラメータを正確に制御します。AMAT 0010-03843R原子炉は、観測窓から見ることができるステンレス製の真空チャンバー容器から構成されています。チャンバーには、シーラント、ガス、ポンプ接続用の多数のポートが装備されています。原子炉内部には上下に2つの平面シールドが装備されています。これらのシールドは、プロセス中に漏れや粒子源が原子炉に侵入するのを防ぐように設計されています。APPLIED MATERIALS 0010-03843Rリアクターには、一連の外部高圧電源が搭載されています。これらの電源は原子炉のチャンバーコントローラに供給され、2つの平面シールド間の電圧は所望のプロセスニーズに応じて変化します。高電力の絶縁スイッチングバルブのセットは、原子炉が排気を注入し、チャンバーにガスを処理することを可能にします。さらに、原子炉は、排気と排気の接続の範囲を介してチャンバーから排気と廃棄物の粒子を循環させるように設計されています。0010-03843R原子炉は、高精度かつ効率的に動作することを可能にする様々な機能を備えています。特に、プロセス層の部分的または完全なエッチングを正確に検出できる動的エンドポイント検出装置を備えています。このシステムはまた、原子炉がチャンバー内の残りの粒子の存在を検出することを可能にします。さらに、制御ユニットは非線形フィードバックとフィードフォワードのアルゴリズムを実装しており、温度、圧力、ガス流量などのパラメータに基づいてプロセス性能を最適化することができます。結論として、AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843Rは、先進的な半導体デバイスの製造から、さまざまなエッチングおよび蒸着プロセスに至るまでのアプリケーション向けに設計された先進的でハイテクな原子炉です。堅牢な設計、精密な制御機械、動的エンドポイント検出ツールにより、高い効率と精度で高品質の結果を提供できます。