中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03500 #293670004 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03500は、化学蒸着（CVD）プロセスで使用される原子炉です。金属、半導体、誘電体、有機化合物の薄膜をさまざまな基板に適用するために使用される特殊なプロセス装置です。CVDリアクターは、材料を蒸発させて基板に堆積させるために熱および化学プロセスを使用します。このCVDリアクターは、水平または垂直のいずれかの構成で使用するように設計された空冷ホットプレートを備えています。ホットプレートには3つのゾーンがあり、基板の正確な温度制御を可能にし、基板全体に均一な蒸着を可能にするように設計されています。この原子炉はまた、室温範囲が1000°C、許容誤差が± 1％の均等に加熱するように設計されたマルチゾーンクォーツヒーターを備えています。この原子炉は、シリコン、アルミニウム、ヒ素ガリウム、リン酸インジウム、炭素、金属有機化学などの幅広い材料で動作するように設計されています。また、窒素、アルゴン、水素など様々なキャリアガスを用いて酸化処理を行うよう設計されています。AMAT 0010-03500 CVD炉は、厚膜加工、半導体製造のRTP （Rapid Thermal Processing）、薄膜成膜、MEMS対応フィルム加工など、さまざまな用途に使用できます。広い加熱面積と調整可能なガスの流れにより、この原子炉は大規模なアプリケーションに適しています。この原子炉には、CVDプロセス中に複数のガスを正確に制御できるガスマニホールドも装備されています。ガスラインには、原子炉へのガスの流量を正確に制御するために使用されるマスフローコントローラが取り付けられています。これにより、幅広い基板および製品タイプのCVD反応を再現できます。応用材料0010-03500 CVDの原子炉は心の安全そして便利と設計されています。PMM（パワーモニタリングモジュール）により、ホットプレートとクオーツチューブ素子、安全インターロックの両方に電力監視を提供します。また、圧力センサ、地上断層遮断器、真空インターロックなど、さまざまな安全機能を備えています。これらのすべての機能を備えた0010-03500 CVDリアクターは、信頼性が高く、安全で柔軟なプロセス機器です。