中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #293763796 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254リアクターは、半導体製造プロセスおよび関連する微細加工アプリケーションで使用するために設計された高度なイオン注入装置です。精密イオンソースアセンブリを備えた高真空チャンバーと、イオンビーム方向とスポットサイズを制御するイオンビームコリメータで構成されています。イオンビームはRF電源で加速され、サンプルステージに集中します。チャンバーは、静脈内ターボポンプとゲートバルブで避難し、活性化することができます。AMAT 0010-03254リアクターにはイオンソース技術が含まれており、幅広いプロセスパラメータを正確に制御できます。ソース内のアクティブハイエネルギー素子は、信頼性、プロセスの安定性、高速起動を向上させるとともに、低温および高エネルギープロセスに最適です。安定した放電は、イオン源の種をイオン化し、バイポーラRF源を使用してイオンエネルギーを制御します。源の発熱体は正確に噴霧し、源の種を分解し、ガス弁は源の種の流動度、圧力および構成を制御するのに使用することができます。イオンのエネルギー拡散は、2つの独立したグリッドによって制御されます。アプライドマテリアルズ0010-03254リアクターには、イオンビームを特徴付けるための角度および飛行時間スキャンおよび抽出可能なビーム電流測定からなるビーム診断ユニットが含まれています。任意のコンピュータ制御サンプルステージをワーク位置決めに使用でき、スキャンされたインプラントとX、 Y平面のサンプル移動を可能にして、正確な線量制御を行うことができます。機械はまた速い避難のための独立した端ポンプを含んでいます。マグネトロニックマルチポールはビームの集中に使用され、高い電子メールの角度および低負荷の角度のために調節することができます。0010-03254リアクターは、単一のウェーハおよびバッチモードを含む複数のモードで動作可能であり、あらゆる種類のイオンを埋め込むために使用することができます。このツールは、最大2ミリアンプの電流、調整可能なバイアス電圧、および0〜980°Cのアクティブなソース温度範囲を提供します。アセットは、複数のウエハを含む任意のサンプルサイズ/形状に対応でき、圧力は10〜3〜10〜7 torrの範囲です。最大ビームエネルギーは50〜500 keVで、高度なプロセス監視と機械操作機能を備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254原子炉は、幅広い重要な半導体製造プロセスを実行する高効率で先進的なモデルです。