中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #293663303 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286リアクターは、高真空化化学蒸着（CVD）リアクターです。このタイプの原子炉は、トランジスタ、集積回路、その他の電子システムなどのマイクロ電子デバイス用の結晶を製造するために半導体業界で使用されています。原子炉は、製品の表面上に望ましい元素の薄膜を堆積することによって動作します。このプロセスは、多くの場合、製品にコーティングする酸化物、窒化物、または他の材料のコーティングを作成するために使用されます。AMAT 0010-01286原子炉は、1200°Cまでの温度での薄膜金属層の堆積のための高温での使用のために設計されています。この原子炉は、薄膜の効率的な堆積のための湿式化学反応室とマイクロ波プラズマ源を備えています。プラズマ源は、製品の高い収率と再現性のある成膜プロファイルを保証します。チャンバーは真空装置を介して圧力制御され、プロセス監視は温度制御システムを介して行われます。原子炉には反応室へのプロセスガス入口とプロセス排気ユニットが含まれています。ガスインレットは、シリコンのコーティング用シランガスなどの前駆ガスを導入し、酸素や水素などのプロセスに必要なキャリアを導入するために使用されます。プロセスエキゾーストマシンは、反応しない分子や反応室からの水などの反応生成物を除去し、反応室の過熱を防ぎます。アプライドマテリアルズ0010-01286リアクターは、反応条件が異常になった場合に反応プロセスを停止することができる連動機能も備えています。これにより、プロセス全体で最適な熱安定性が保証されます。さらに、原子炉は耐久性のあるステンレス鋼で構成されており、デジタルコントロールパネルで簡単に操作できるように設計されています。0010-01286原子炉はハイテク産業の薄膜の沈着のための理想的な選択です。この原子炉は、高収率の薄膜蒸着のための信頼性の高い再現可能なプロセスを提供します。この原子炉は高品質の材料で構成されており、最適な反応プロセスのための温度およびガス条件の正確な制御を提供します。インターロック安全ツールは、ユーザーとデバイスの最適なパフォーマンスと安全性を保証します。