中古 AIXTRON TS #9363430 を販売中

AIXTRON TSは、薄膜の堆積のための最先端の商業用CVD原子炉装置です。AIXTRON GmbHによって開発され、半導体グレードの薄膜を堆積するために使用されます。TSは顧客の要求に従ってカスタマイズすることができるモジュラーシステムです。主に誘電体、半導体、または金属材料を基板に堆積させるために使用されます。AIXTRON TSリアクターは多くの利点を提供します：それはフィルム厚さの優秀な均等性を提供します；それは使いやすく、異なった部屋構成のためにカスタマイズすること容易です；それは任意低温プロセス部屋と利用できます。TSはまた、オートメーションコンポーネントなどの新しい追加でアップグレードおよび改装することができます。AIXTRON TSの中心は、独自のシャワーヘッドデザインです。この設計により、均一で高い沈着率と再現性のあるプロセスが保証されます。Showerheadは異なった源の圧力に置くことができ、源の材料は顧客の必要性に従って選ばれ、変更され、そして再校正することができます。このShowerheadはガスの流れのよい均一性を可能にし、また温度、背景圧力および部屋の温度に関する均一性を提供し、一貫した、安定したプロセスを可能にします。TSにはプロセスコンピュータが搭載されており、基板温度、チャンバー圧力、ソースガス入力などのプロセスパラメータを微調整することができます。このプロセスコンピュータには専用のプロセスソフトウェアが含まれており、ユーザーがプロセスパラメータをカスタマイズして調整するのに役立ちます。プロセスソフトウェアには、プロセスドリフトとソースの自動補正を可能にする自動校正機能も含まれています。AIXTRON TSはまた、優れた安全機能を備えています：過圧保護を備えた緊急ガスシャットオフユニットは、薄膜への偶発的な損傷を防ぐために設置されています。追加のアラームマシンは、緊急時に聞こえる警告を鳴らします。要するに、TSは薄膜の堆積のために設計されたモジュール式で信頼性が高く、カスタマイズ可能なCVDリアクタツールです。その機能とハイエンドのプロセスコンポーネントは、さまざまなCVDプロセスに最適なツールです。