中古 AIXTRON TS OCSH 30X2 #9181587 を販売中

AIXTRON TSCOH 30X2は、有機化合物、窒化物、酸化物、合金などの幅広い機能性材料を堆積することができるオールインワンの化学蒸着装置です。それは高いプロセス柔軟性および優秀な均等性および制御を両方提供するように設計されています。AIXTRON TSCOH 30X2には2つの異なるプロセスチャンバーが装備されており、それぞれに専用のコンポーネントが装備されています。最初のチャンバーは、0。005から20 torrまでのチャンバー圧力で減圧エピタキシー（RPE）および化学蒸着（CVD）機能を提供します。このチャンバーは、サセプターヒーター付きの上部暖房段を備え、下側の暖房段はメディアヒーターとピストンで構成されています。上段と下段の移動は200mm/sまで独自に制御することができます。AIXTRON TSCOH 30X2の第2の部屋は固体源MBEプロセスのために設計されているより高い温度の処理部屋です。このチャンバーは、上部加熱ステージを備えており、ハフニウムバンドヒーター、ホットダイポールアセンブリを下段構成部品として備えています。このチャンバーは、0。001から50 torrまでのプロセス圧力に対応できます。AIXTRON TSCOH 30X2は、層均一性を最大限に高め、プロセスを正確かつ正確に制御するために、圧力制御、温度制御、マスフローコントローラを備えています。このシステムは、一貫したパフォーマンスと強力なコンピュータ支援プロセス分析のために、急速な温度サイクルを提供することができます。さらに、このユニットは、材料蒸着プロセスのリモート制御と正確な温度制御のためのプロセスチャンバーのマルチゾーン制御を可能にします。安全性と品質保証は、AIXTRON TSCOH 30X2の重要な機能であり、完全に統合された安全インターロックツール、および統合されたガス漏れ検出資産（N2O監視。このモデルの完全に自動化された操作は、高いプロセス稼働時間と一貫したプロセス歩留まりを確保するのに役立ちます。要約すると、AIXTRON TSCOH 30X2は、最大限の柔軟性と正確な制御のために設計されたオールインワンポリマーおよび半導体の蒸着ソリューションです。幅広い機能性材料の堆積が可能であり、正確で信頼性の高い結果を得るための高度なパラメーター制御が可能です。