中古 AIXTRON TS CCSH31x2" #9386931 を販売中

AIXTRON TS CCSH31x2炉は、FMO （Functional Metal Oxide）および誘電性酸化物ベースの材料蒸着用に設計されたマルチチャンバープラズマ蒸着システムです。これは、高品質で正確な膜厚の成長のための高度なリモートプラズマ源を利用しています。さらに、このシステムはバッチワイズとインラインプロセスの両方で動作することができます。AIXTRON TS CCSH31x2には、シングルゾーン電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ源が統合されています。このECRプラズマ源を使用することで、基板上の粒子のエネルギーとフラックスを正確に制御することで、低エネルギーの堆積を可能にすることができます。ECR源はさらにマイクロ波発電機と外部磁場コイルで構成されており、均一で均一なプラズマを保証します。AIXTRON TS CCSH31x2炉は、プラズマの加速と持続にヘリコンコイルを使用しています。また、原子炉は基板の回転と台座の動きによって、高速で正確で反復可能な層の堆積を可能にします。さらに、AIXTRON TS CCSH31x2のタレット設計により、最大4つの基板ローディングローと2つの堆積チャンバーが可能です。これにより、様々な基板の表面処理や頻繁な基板交換が可能になります。AIXTRON TS CCSH31x2炉は、高度なプロセス制御と監視機能を備えています。それは最もよいプロセス再現性および精密を保障するためにフィードバックシステムが装備されています。基板温度、蒸着速度、ガス圧力に対するフィードバックを提供するように構成されています。これは、産業プロセスで必要とされる層の堆積の精度と精度を提供するのに役立ちます。また、AIXTRON TS CCSH31x2炉には安全インターロックが内蔵されており、エッチング中に不活性ガスを注入するとチャンバーを自動的にシャットダウンします。AIXTRON TS CCSH31x2炉は、酸素、窒素、アルゴンなどの幅広いタイプのプロセスガスで動作するように設計されています。また、表面の機能化や、酸化インジウム（ITO）や酸化亜鉛（ZnO）などの複雑な金属酸化物の沈着にも適しています。全体として、AIXTRON TS CCSH31x2は、FMO （Functional Metal Oxide）および誘電性酸化物ベースの材料蒸着用に設計されたマルチチャンバープラズマ蒸着システムです。プロセス制御およびモニタリング機能により、精密かつ均質なプラズマ蒸着を可能にします。表面の機能化や複雑な金属酸化物の堆積に適しています。