中古 AIXTRON Tricent #9199207 を販売中

AIXTRON TricentはAIXTRONが開発した大気圧化学蒸着（AP-CVD）原子炉です。このツールは、ナノ材料および薄膜成膜のための信頼性の高い高性能プラットフォームをユーザーに提供するように設計されています。他のCVDシステムとは異なり、Tricentは高度なインライン設計を備えているため、追加のプロセスや機器と簡単に統合できます。この装置は、コールドマウント、ホットマウント、およびノズルの3つの主要コンポーネントを備えており、幅広いプロセス機能と均一性を提供するように設計されています。AIXTRON Tricentのコールドマウントは、基板全体にわたって均一な温度分布を保証する堅牢で信頼性の高い3ゾーンヒーターシステムです。さらに、コールドマウントは高度なガス制御とパージ機構を備えており、温度制御とプロセス安定性の両方を向上させます。トリセントのホットマウントは高度なアークプラグ設計を備えており、ユーザーは可能な限り最高のアスペクト比で材料を入金することができます。さらに、ホットマウントには最適化されたガス供給ユニットがあり、処理サイクル全体で最適なガス流量を保証します。この機械は沈殿させた層の均質な構造そして完全な付着を提供するように設計されています。均一な薄膜成膜を実現するため、高精度ノズルを搭載しています。このノズルは長期操作のために設計され、安定した、再生可能な物質的な放出を保障します。さらに、ノズルは正確なサイズと定義された速度の液滴を生成することができ、基板上の均一な成膜を保証するのに役立ちます。全体として、Tricentはナノマテリアルと薄膜を堆積させるための非常に強力で汎用性の高いプラットフォームです。優れた接着性と精度で均一な厚みと高品質の層を生成することができます。さらに、高度なインライン設計により、追加のプロセスと機器との統合が容易になります。