中古 AIXTRON LYNX3 #9206615 を販売中

AIXTRON LYNX3は、マイクロエレクトロニクスや太陽電池、マイクロLED、フレキシブルディスプレイ、半導体メモリデバイスなどの光電子アプリケーションにおける薄膜の沈着用に設計された先進的な化学蒸着（CVD）反応器です。それは優秀な均等性および優秀なサイドウォールの適用範囲、また複雑な構造のための優秀なステップ適用範囲を提供します。LYNX3は、蒸着室の温度変化を大幅に低減するコールドウォールリアクター技術を使用しています。この技術は、望ましくない温度変動を排除し、一貫した結果を保証します。AIXTRON LYNX3炉には、3つの首の垂直シャワーヘッドが装備されています。8インチから24インチまでのさまざまなチャンバーサイズで提供され、大量生産能力と中量の研究開発能力の両方を提供します。この原子炉には高度な安全機能と複数のプロセス制御機能が搭載されているため、商用および研究用途に最適です。LYNX3にはMGIS （Multi-Gas Injection System）が搭載されており、リアクタント流量を正確に制御して最適なプロセス制御を行うことができます。また、フラットウエハ全体のフィルムの均一性や、MEMSや先進誘電層などの物体の側壁などを実現するコンバージェントダイバージェントノズル（CDN）を搭載しています。このシステムはまた、金属化された金属化層上の銅の堆積を可能にするように設計されたFront Wall Injection （FWI）をサポートしています。AIXTRON LYNX3リアクターは、高度な電力および温度制御システムを備えており、ユーザーはプロセスパラメータを正確かつ正確に制御し、蒸着プロセスをリアルタイムで監視できます。光学サンプル表示により、堆積膜の品質を評価することができます。このリアクタはまた、プロセス監視ソフトウェアパッケージをサポートしており、ユーザーはプロセスの問題をすばやく特定してトラブルシューティングすることができます。結論として、LYNX3は、マイクロエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス産業における厳しい要件と用途を満たすように設計された先進的なCVD炉です。マルチガス射出システム（MGIS）やフロントウォールインジェクション（FWI）などの高度な機能を備えており、平らなウェーハや物体の側壁におけるフィルムの均一性を実現しています。また、先進的なプロセス制御と監視機能を備えているため、生産や研究開発に最適です。