中古 AIXTRON LYNX2 #9130267 を販売中

AIXTRON LYNX2は、多種多様な技術用途に対応する高品質の薄膜材料の蒸着用に設計された最先端の半導体製造炉です。プラズマ強化化学蒸着（PECVD）技術と高効率かつ低コストの真空蒸着を組み合わせたオールインワン原子炉です。LYNX2は、パネル、ウェーハ、さらにはフレキシブル材料などの大面積の基板に成膜することができます。AIXTRON LYNX2の高性能成膜プロセスは、自動化されたプロセス制御、高精度の加熱能力、すべての温度での一貫したプロセス制御、およびフィルムの均一性を維持することによって達成されます。このプロセスは、オプションのロードロック機能によって有効になり、最小の操作で短期または長期間の蒸着を実行できます。自動化された制御ソフトウェアを使用すると、プロセス要件の変化や材料タイプの変化に応じて、蒸着プロセスパラメータを変更できます。LYNX2の設計には、原子炉室内の最適化された静電気および磁場が含まれており、フレークと破壊を最小限に抑え、均一性と高品質の蒸着速度を保証します。AIXTRON LYNX2は高いスループットを実現しているため、より大きな領域での短納期が可能です。これにより、生産性、信頼性、再現性が向上し、生産性向上の顧客満足度が向上します。LYNX2の統合プロセス監視およびフィードバックシステムは、堆積プロセスの品質と一貫性について貴重な洞察を提供します。プロセス制御機能により、プロセスパラメータを簡単に調整し、すべての材料を満足のいく厚さと品質で堆積させることができます。AIXTRON制御技術は、過剰または沈殿していない材料層を防ぎます。AIXTRONの自動故障診断およびレポートシステムにより、個々のモジュールを簡単に交換できるため、故障（MTBF）間の平均時間が長くなり、AIXTRON LYNX2の信頼性とパフォーマンスがさらに向上します。メンテナンスアラートシステムは、プロセスの故障やハードウェアの故障を示し、柔軟なソフトウェアアーキテクチャにより、自動化されたノート作成とプロセス調整を即時かつ効率的に行うことができます。LYNX2は、さまざまな産業に高品質で費用対効果の高い蒸着技術を提供する最先端の原子炉です。自動化された制御システムにより、高いスループット、最小限のメンテナンス要件、および再現可能な成膜結果が保証されます。その高度な静電気および磁場は、高い均一性とフィルム品質を保証します。プロセス監視およびフィードバックシステムは、沈着プロセスに関する貴重な洞察を提供し、必要に応じて迅速に変更を行うことができます。高性能、自動化されたプロセス、低コストのAIXTRON LYNX2は、半導体製造に最適です。