中古 AIXTRON G5 #9222132 を販売中

AIXTRON G5は、高品質の薄膜材料を製造するための最先端の成膜ツールです。画期的な蒸発/スパッタリング技術とイメージング技術に基づいて、ユーザーは高い適合性と成長パラメータの制御を持つフィルムを生産することができます。AIXTRON G 5は、複数の外部ユニットに囲まれた高精度の原子炉室で構成されています。チャンバー自体は、10〜4 mbarの動作圧力を維持するように設計されたステンレス鋼で作られています。チャンバー内にはスパッタと蒸発源があり、スパッタリング用の4つのターゲットと4つの蒸発ボートで構成されています。これらのターゲットは、数ナノメートルから数ミクロンまでの厚さのフィルムを堆積させるために使用することができます。蒸着速度と動作温度はどちらも調整可能で、温度は800°Cまで、蒸着速度は5nm/秒を超えます。G5の制御システムはインテリジェントなソフトウェアパッケージに基づいており、ユーザーは堆積パラメータをリアルタイムで最適化することができます。スパッタおよび蒸発ターゲットの自動または手動制御、およびバッチプロセスが利用可能で、ユーザーは介入せずにプロセスを開始および停止できます。このシステムには、結晶なしの回折解析ユニットも含まれており、可能な限り最高のフィルム品質を達成するためにリアルタイムでプロセスを分析および制御することができます。G 5リアクターには、軸外温度測定、IRイメージング、4点式プローブ電気特性評価など、さまざまなチャンバーとin-situ機能が装備されています。これらのin-situ機能は、フィルム構造に関する優れた情報源を提供し、ユーザーはより良いフィルム品質のためにプロセス条件を微調整することができます。AIXTRON G5は、高品質の薄膜のファブ用に特別に設計されています。光電子デバイス、半導体、太陽電池、燃料電池など、幅広い用途に使用されています。このシステムは、新しい材料やプロセスの研究開発にも適しています。AIXTRON G 5は、高度な成膜ツールであり、高度な製造プロセスが必要とする柔軟性を提供します。自動化された制御システム、高度なin-situ機能、および高精度な動作により、高品質のフィルムの製造に最適なツールです。