中古 AIXTRON G3 2600 #9150530 を販売中
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販売された
ID: 9150530
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2007
MOCVD Systems, 4"
LED for GaN
Heating type: RF Induction heater
Epi-tune: In-situ reflectance spectra
Software OS: Window
Gas system:
Gas type: VCR Type
MFC: Bronhost / N2 / H2 / HCL / SiH4 / NH3
Carrier gas:
H2 (Total flow : 70 l/min)
N2 (Total flow : 70 l/min)
MO-Source: TMGa, TEGa, Cp2Mg, TMIn, TMAl, UDMH, CBr4, DTBSI
Vacuum system:
Process pump: EBARA ESA25D Dry pump
Filter: Exhaust gas filter with chiller
Pressure control: MKS651 Controller
Throttle V/V
Utility:
Voltage:
System: 208V AC, 3 Phase
Heater: 380V AC, 3 Phase
Cooling system:
Cooling liquid: Water
Max.inlet pressure: <6 bar
Differential pressure: >4 bar
Inlet temperature: <25℃
Outlet temperature: <65℃
Included:
GMS Cabinet
Reactor cabinet
Exhaust and chamber
Scrubber
RF Generator
Particle filter
Pump
Power:
System: 25KVA
Heater: 144KVA
208 V, 3 Ph, 50/60 Hz
Currently de-installed and warehoused
2007 vintage.
AIXTRON G3 2600は、先端材料の製造用に特別に設計された原子炉です。現在市販されている最も強力な原子炉の1つで、高出力、汎用性、精密性能を兼ね備えています。G3 2600には300mmプロセスチャンバーがあり、制御可能で均一な温度を提供して最適なプロセス結果を生成できます。シリコン、インジウム、アルミニウム-ガリウム-ヒ素（AlGaAs）、シリコンゲルマニウム（SiGe）、窒化ガリウム（GaN）などの幅広い材料を処理することができます。また、アプリケーションに最適化されたダイナミックレンジのプロセスパラメータを提供しながら、酸化および蒸着のための材料を蒸発させる機能を備えています。AIXTRON G3 2600は、さまざまなアプリケーションに最適な高度な機能を備えています。革新的な設計により、優れたコンフォーマルフィルムの均一性と均一な均一な均一な薄膜ドーピングが可能になり、低熱予算のガス源は従来の蒸着技術と比較して高い平坦度で酸化物の蒸着を可能にします。さらに、その調整可能な熱予算は、単層構造と多層構造の両方で幅広いフィルム応力を可能にします。G3 2600リアクターは、プロセス反転を備えた高度なバッチ制御ソフトウェアを介して、高度な自動化とプロセス監視も提供します。このソフトウェアは、事前にプログラムされたプロセスプロトコルを容易にし、オペレータがシステムパラメータを迅速かつ簡単に最適化できるようにします。さらに、AIXTRON G3 2600は、すべての環境規制およびインシデント防止規制を満たすように設計されていますが、プロセスチャンバーの自動インターロックは、潜在的な危険がある場合には直ちにプロセスを停止します。さらに、RFガスケットやフェライト混合などの機能は、フィルム汚染の低減/除去にも役立ち、密閉された形状は密閉処理環境を確保します。広範な機能を備えたG3 2600は、幅広い研究および産業用途に理想的な原子炉です。それは先端材料の生産のための精密な制御を提供し、それをあらゆる先端物質的な適用のための大きい選択にする信頼でき、有効、多目的です。
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