中古 AIXTRON Crius #9299684 を販売中

AIXTRON Criusは、高度な技術、マルチウェーハ、化学的支援、化学蒸着（CVD）装置で、さまざまな精密な制御オプションを備えています。ウェーハ基板、フレキシブルテープ、さらには大型基板（最大594mm）など、さまざまなサイズの基板に薄膜材料を堆積させることができるように設計されています。Criusはマルチソースのマルチゾーンリアクターであり、蒸着プロセス全体が同じ反応チャンバー内で制御されます。これにより、異なる温度および蒸着速度での薄膜の精密な蒸着が可能になります。また、リアルタイム温度監視機能と効率的な温度制御機能を備えています。AIXTRON Criusは、水素、ヘリウム、窒素、およびその他のガス、ならびにシリコン、炭素、タングステンなどの反応元素を含むさまざまな化学源を使用しています。これにより、エレクトロニクスやフォトニクス用途向けの超薄膜など、さまざまな材料を堆積させることができます。また、ガス流量、反応時間、ウェーハ温度などの反応パラメータを精密に制御することで、幅広い基板の均一性を実現しています。クリウスの蒸着チャンバは、均一性と再現性を向上させるために設計されており、蒸着サイクルごとに同じ正確なパラメータが使用され、毎回一貫した結果が得られます。このチャンバーには、高度な光学放出監視機能を備えた水晶原子炉窓があり、堆積層の詳細な分析が可能です。このマシンにはさまざまなセンサーが搭載されているため、ツールの監視と制御が可能で、ピーク効率と最大の安全レベルで動作します。アラームは、潜在的な異常または資産の運用に対する潜在的な脅威をオペレータに警告するために設置されています。全体として、AIXTRON Criusリアクターは、幅広い基板に精密な堆積と均一性を提供する強力で信頼性の高いモデルであり、使用される材料をより大きな制御し、毎回一貫した結果を生み出します。