中古 AIXTRON Crius II #9402490 を販売中

AIXTRON Crius IIリアクターは、原子層成膜（ALD）および化学蒸着（CVD）に使用される高精度の卓上成膜ツールです。主に薄膜成膜用途に使用されています。これは、マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、磁気貯蔵、エネルギー貯蔵、バイオメディカルなどの幅広い技術で、さまざまな重要なインターフェース層と薄膜を信頼性が高く、正確かつ再現可能に形成するために設計されています。Crius IIは完全に自動化されたシステムであり、正確で反復可能なプロセス制御を提供します。AIXTRON Crius IIは、異なる蒸着モジュールを容易に統合できる、実証済みのモジュール設計に基づいています。また、サンプル回転および水平基板サポート、前蒸発およびサンプル加熱、モーター付きシャッター、複雑な層の蒸着プロセスのための同時にソースの共蒸着のためのCo-Depositionオプションなどの幅広い先進的な機能も含まれています。Crius IIの蒸着モジュールには、Moseleyソースホルダーが装備されており、単一または複数の基板ソース構成と、複数の前駆体または反応体のソース媒介共成成を可能にします。Moseleyソースホルダーは、フィルムの沈着と均質性の均一性を支援するロッキングモーションで設計されています。AIXTRON Crius IIには、高精度のサンプルヒーター、シャッター、加熱シャッターも設置されています。サンプルヒーターは真空密封されたキャビティバック設計です。それは急速なサンプル温度調整および精密な、反復可能な温度を提供します。加熱されたシャッターにより、フィールドフリーで正確な同時蒸着と共蒸着、基板から裏面蒸着までの温度制御が可能です。Crius IIは、ナノレイヤード薄膜の堆積のための強力なツールです。精密で反復可能なコーティングを可能にし、正確に決定された位相と界面境界を持つ構造を実験的に検証します。AIXTRON Crius IIは、さまざまな蒸着プロセスに最適なプロセス制御のための幅広いパラメータチューニングが可能です。これは、研究、開発、生産アプリケーションで使用するための強力で徹底的なツールです。