中古 AIXTRON Crius II #9272522 を販売中

AIXTRON Crius IIは、研究および産業用PECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）コミュニティの要件を満たすように設計された高品質の蒸着ツールです。Crius IIはAIXTRON Criusのアップグレード版で、高速基板転送とオプションの溶接チャンバーで知られていた信頼性の高い性能と広範な機能を備えた人気のツールでした。AIXTRON Crius IIは、低圧、シングルチャンバーシステム、完全オートメーション、および複数のプロセス技術で構成されるアップグレードされたVersa Platform™装置によって、前任者で改善されます。Versa Platform™ユニットは、汎用性、再現性、信頼性の高いPECVDソリューションを提供するとともに、歩留まり均質性、非アクティブなチャンバ時間、およびプロセスの柔軟性を向上させるように設計されています。Crius IIには、プログラム可能な基板加熱機、基板事前クリーニングチャンバー、プラットフォームの制御ソフトウェアからの蒸着チャンバの高度なリモート制御が標準装備されています。さらに、このユニットには、SiO2、 SiN、 Ge、 Ta2O5などの複数のプロセスに最大3つの前駆ガスを供給するために使用できるプログラム可能なガス供給ツールが付属しています。AIXTRON Crius IIのユニークな特徴は、可変PLD/PECVD電源設定でプラズマを効率的に生成するためのZ字型RFアンテナを備えた高度な誘電ミラーキャビティです。これにより、成膜の均一性が向上し、基板スループットが向上します。さらに、そのビーム制御アセットは、小さな影の効果と平坦な堆積均一性を保証します。Crius IIにはオプションのViewpoint™監視および制御モデルがあり、オペレータはリアルタイムで蒸着チャンバの健康と性能をリモートで監視できます。この装置は、堆積プロセスに関する最新のデータと、注意が必要なプロセスの問題をオペレータに警告するアラームシステムを提供します。さらに便利に、AIXTRON Crius IIは、AIXTRON Prodigy Multi-station UnitやAIXTRON SELECT deposition systemなどの他のAIXTRONツールと互換性があるように設計されています。これにより、蒸着機の設置における最大限の汎用性が可能になり、今後もCrius IIは信頼性が高く効率的な蒸着ツールであり続けることが保証されます。