中古 AIXTRON Crius II #9272514 を販売中

AIXTRON Crius IIは、幅広い用途向けに効率的かつ正確な物理蒸着（PVD）プロセスを提供するように設計された先進的な蒸着装置です。この原子炉は、ユーザーがフィルム成膜能力を変更して改善することができる「懸濁基板」技術を利用しています。この技術は加熱された台座の基板材料を吊り下げ、特定の領域に集積または蓄積することなく基板全体に均一な堆積を可能にします。Crius IIは、サイズと形状の広い範囲の基板のバッチを生成することができます。AIXTRON Crius IIは、基板の動きを調整し、蒸着源に対して基板のアライメントを最適化する自動基板処理システムを搭載しています。これにより、基板表面全体で正確かつ制御可能な厚さバリエーションを作成できます。さらに、Crius IIは、独自の陽極アーク放電プロセスを利用した革新的な蒸着源を備えており、高精度の蒸着速度と正確な膜厚を提供します。AIXTRON Crius IIの内部は、効率的な熱管理を保証する高度な空冷ユニットを備えており、成膜プロセスをチャンバー全体で一貫した温度に保ちます。さらに、窒素ガスフロー燃料噴射装置を備えており、高純度の蒸着プロセスを実現しています。また、Crius IIは、組み込みPCを使用して原子炉環境のデータを監視、取得、分析する高度な診断ツールも備えています。これにより、メンテナンスコストを削減し、基板堆積やコーティングの品質を向上させることができます。AIXTRON Crius IIは、圧力、温度、湿度などの環境パラメータを監視することができ、反復可能で一貫した沈着結果を保証します。Crius IIは、幅広い用途に適した効率的で信頼性の高い成膜資産です。ユーザーに精密な蒸着速度と均一な基板コーティング機能を提供し、優れた熱管理およびデータ収集システムを備えた信頼性の高い環境を提供します。その結果、AIXTRON Crius IIは、さまざまな業界で使用される高精度の蒸着プロセスに理想的な原子炉です。