中古 AIXTRON Crius II #9270073 を販売中

AIXTRON Crius IIは、最先端のプラズマ強化化学蒸着（PECVD）炉で、高度なプロセス技術と優れた品質、費用対効果、マルチユーザ動作を組み合わせています。この装置は使いやすいGUIを備えており、経験豊富なユーザーが最適な性能を得るためにリアクタのパラメータを設定することができます。柔軟なプロセスチャンバー設計により、幅広い薄膜材料を短時間で堆積させることができます。Crius IIは、反応チャンバーと基板チャンバーの2つのプロセスチャンバーを備えたマルチチャンバーシステムです。反応チャンバーには、rfプラズマを生成するための誘導結合13.56MHz源が装備されています。AIXTRON Crius IIには独立したRF電源が搭載されており、リップルが低く再現性が高い精密な電力制御が可能で、幅広い蒸着プロセスに適しています。Crius IIは、多数のガスの高出力および高圧プラズマを生成することができ、ユーザーはプロセスを希望する結果に合わせて調整することができます。基板チャンバーには、キャリア、窒素、アルゴン用の外部循環ユニットによって温度制御された基板ヒーターが装備されています。機械は温度の広い範囲の操作のために設計され、850°C。まで均一な暖房が可能です。AIXTRON Crius IIは、最適な蒸着プロセス条件を保証するアクティブ冷却ツールも備えています。Crius IIには、成膜プロセスの構成と最適化のためのユーザーフレンドリーなソフトウェアを備えたプロセス制御モジュールが含まれています。パワーレベル、プロセスガス組成、プロセス時間など、ユーザーの仕様に応じてさまざまなプロセスパラメータを調整できます。AIXTRON Crius IIはモジュラー構造であり、様々な蒸着用途に必要に応じて資産ハードウェアを変更できます。Crius IIは汎用性の高い原子炉であり、PECVDプロセスの利点を利用することができます。AIXTRON Crius IIは、長寿命、費用対効果、高品質の成膜結果により、さまざまな薄膜プロジェクトの研究開発に最適なツールです。