中古 AIXTRON Crius I #293678425 を販売中

AIXTRON Crius Iは、AIXTRONによって設計されたナノ構造材料の研究および生産のための原子炉です。プラズマベースの物理蒸着（PVD）装置で、誘導結合プラズマ（ICP）を使用して基板レベルのプラズマ密度を微細に制御し、最適な接着と材料特性を実現します。Crius Iには、柔軟性とスケーリングを向上させる革新的なモジュラー設計があります。小規模製品の試作からナノ構造材料の大量生産まで、用途に適しています。オープンアーキテクチャを備えており、追加のハードウェアコンポーネントを使用してアップグレードおよび拡張することができます。AIXTRON Crius Iは、最大16個の独立して調整可能な電源を備えた複数のICPチャネルもサポートしています。また、高度な監視および制御システムを備えており、精度と品質を向上させるためのプロセスパラメータの最適化を可能にします。Crius Iは、ナノチューブ、ナノ粒子ベースの薄膜、チューニング可能な特性を持つナノ構造メッシュなど、さまざまなナノ構造材料の生産をサポートしています。この原子炉では、ナノテクノロジー材料を高精度、再現性、効率性で製造することができます。プロセスパラメータは、材料の結晶性と特性を正確に制御することで、多種多様なナノ構造材料の生産を可能にするように設計されています。AIXTRON Crius Iは、蒸着、スパッタリング、イオンビーム蒸着などの幅広い蒸着技術もサポートしています。Crius Iは、高収率の高性能ナノ構造材料を幅広く生産することができます。高度な前駆体制御ユニットは、前駆体材料の流れを正確に監視し、必要に応じて調整します。これは、堆積プロセスが一貫しており、最終製品が望ましい特性を持つことを保証するのに役立ちます。原子炉には、すべてのプロセスが安全で信頼できることを保証する統合安全機械もあります。要約すると、AIXTRON Crius Iはナノ材料の研究と生産のための汎用性と強力なPVD炉です。精密な制御、高度なモニタリング、高収率を提供し、包括的なナノマテリアルを提供します。その革新的なデザインと機能は、あらゆる実験室や生産環境に最適なツールです。