中古 AIXTRON Crius 31x2" #9353185 を販売中

AIXTRON Crius 31x2は、半導体材料の開発に使用されるように特別に設計された最先端の化学蒸着（CVD）原子炉です。この高度な原子炉は、業界で類を見ないオートメーションと柔軟性の優れた組み合わせを提供します。この原子炉は、AIXTRONが開発した新しいCDD法に基づいており、幅広い機能を可能にするモジュラー設計を備えています。この汎用性の高いCVDリアクターには、複雑な反応剤が混在しており、高度な処理能力を実現しています。太陽電池（PV）セル成膜、シリコンエピタキシー、薄膜トランジスタ製造などの用途に使用できます。Crius 31x2はユニークなチャンバー設計と構造を採用しており、さまざまな基板に効率的かつ均一な蒸着が可能です。高性能な蒸着チャンバーは、最大1100°Cの温度に耐え、最大100 Mbarの圧力に耐えることができます。この堅牢なフレームワークにより、基板沈着速度と厚さの均一性を優れた制御が可能です。柔軟性と使いやすさのために、原子炉はまた、自動基板ローディング機構を備えています。この機構により、オペレータが手動でチャンバや基板を操作することなく、基板を素早く正確に積載することができます。リアクタには、プロセスパラメータと分析を記録するためのデータ収集インターフェイスも含まれています。AIXTRON Crius 31x2は安全で信頼性の高いシステムで、誤った過圧と高温動作を防ぐ安全回路を内蔵しています。さらに、強力なプラズマ制御モジュールを内蔵しており、プラズマ処理の最大限の制御と精度を実現しています。その印象的な技術的な機能に加えて、AIXTRON Crius 31x2は非常に使いやすいです。ユーザーフレンドリーな操作により、生産レベルのスピードとメンテナンスを最小限に抑えた長期運用が可能です。ハイエンドの機能と優れた性能の最適な組み合わせにより、AIXTRON Crius 31x2は、特別な半導体デバイスを作成するために探しているプロのニーズを確実に満たします。