中古 AIXTRON AIX #9409484 を販売中
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AIXTRON AIXは、ドイツの半導体機器メーカーであるAIXTRON SEが製造した化学蒸着（CVD）炉です。AIX炉は、シリコン、二酸化ケイ素、ドープシリコンなどの薄膜半導体材料の製造に使用されています。AIXTRON AIXリアクターは、金属有機化学蒸着（MOCVD）技術に基づいており、大気圧の化学蒸着（APCVD）、低圧化学蒸着（LPCVD）、高圧蒸着（LPCVD）のすべてのCVDモードで使用できます。原子炉は、すべての材料の生産におけるCVDの単一のソースとして使用するために設計されています。2段階のプロセスを使用し、1段階はリアクタント予熱チャンバー、2段階は反応チャンバーを使用します。予熱チャンバーは、必要な動作温度に誘導オーブンで加熱されます。反応室はガス燃焼の赤外線ランプによって加熱されます。反応の時点でプロセスガスが原子炉に導入されます。プロセスは精密な制御システムによって調整されます。AIXリアクタは、定義された厚さと正確な形状の高品質のフィルムを生成することができます。原子炉内の極めてクリーンな環境は、優れた均一性と再現性のある光学および電気特性を保証します。フィルムは単層または複数層で成長させることができ、トランジスタ、ダイオード、その他のアクティブおよびパッシブ電子部品などの半導体デバイスの製造にしばしば使用されます。AIXTRON AIXリアクターは、標準AIX600、 AIX1200、 AIX1800を含むいくつかのモデルで利用可能です。各モデルは、パフォーマンス特性の向上とスケールアップ機能を提供します。AIX1200とAIX1800により、プロセスの自動化と柔軟性が向上します。また、原子炉には、生産されているフィルムを測定するための自動光学モニタリングシステムを装備することができます。AIXは、高度な制御と柔軟性を提供する信頼性と汎用性の高い原子炉です。半導体の製造に使用されるだけでなく、誘電体、反射層、透明層などの他の薄膜の製造にも使用できます。この原子炉は大量生産に適しており、クリーンルーム環境での使用に適しています。
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