中古 AIXTRON AIX G5 HT #9283176 を販売中

AIXTRON AIX G5 HTは、III-Vとシリコンベースの両方の製品を製造するためのハイスループットMOCVDツールです。この原子炉は、1。3インチから8インチまでの幅広い基板サイズのための包括的なMOCVDプロセスチャンバーを備えています。III-V原料やシリコン前駆体の広いスペクトルを利用して、多くのユニークな光電子デバイスおよび半導体デバイス構造の成長を可能にします。AIXTRON AIX G 5 HTには、Dynamic Pressure Control、レーザーベースのプロセス監視システム、RF/加熱チャンバプロファイル制御、自動ウェーハ位置決めおよび交換システムなど、MOCVD技術の最新技術が多数搭載されています。これにより、最高レベルのウェーハ間の均一性、製品歩留まりの向上、包括的なプロセス制御が保証されます。AIX G5 HTリアクターはまた、精度と生産性のための垂直サセプター設計を備えています。この垂直設計により、ウェーハの平坦性と温度の均一性をより良く制御できます。また、フルフィールドアライメント/スキャンシステムを備えており、正確で繰り返し可能なウェーハ位置制御とより良い均一性制御を可能にします。AIX G 5 HTは、スループットを最大化し、コストを削減するように設計されており、プロセス効率を高めるために多数の機能が組み込まれています。利用可能な機能としては、AIXTRON Dynamic Pressure Control （DPC）、レーザーベースのプロセス監視システム、RF/加熱チャンバプロファイル制御、および自動ウェーハ位置決めおよび交換システムがあります。AIXTRON AIX G5 HTは、III-Vおよびシリコンベース製品の片面および両面のMOCVDプロセスを含む幅広い基板にも対応しています。これにより、製品設計の柔軟性が向上し、歩留まりが向上します。AIXTRON AIX G 5 HTは、今日の最先端のオプトエレクトロニクスおよび半導体デバイス製造のすべての品質管理および効率要件を満たすために、高度なプロセス制御および監視機能を提供します。これらの機能は、標準的なプロセスレシピから、より高度なデジタルロジックベースのプロセスコントロールアルゴリズムまでさまざまです。結論として、AIX G5 HTは、III-Vおよびシリコンベース製品のハイスループットMOCVD処理用に特別に設計された先進的な原子炉です。MOCVD技術の最新の進歩を取り入れ、歩留まりを改善して再現性と信頼性の高い結果を生み出します。垂直サセプタデザイン、ダイナミック圧力制御、その他多くの機能を備え、今日の最先端の光電子デバイスおよび半導体デバイスの生産に最適なツールです。