中古 AIXTRON AIX 2800 G5 #9358478 を販売中

AIXTRON AIX 2800 G5は、化合物半導体製造用の金属有機化学蒸着炉（MOCVD）です。この原子炉は、厚さから単層までの複合層の精密な堆積を行うように設計されています。その設計には、高温および超高真空（UHV）環境が可能な自動反応チャンバ、および5インチ、高温およびUHV基板ホルダーが含まれています。これにより、最高品質の基準を満たす生産が可能になります。AIX 2800 G5は、独自のLEDおよびデジタルイメージングシステムを使用して、フィルムの成長をリアルタイムで監視するフルカラーシステムです。その結果、短期精度レベルは0。005nm （50 pm）、長期精度レベルは0。01nm （100 pm）です。この設計により、最大5×10-7 mbarのバックグラウンド圧力の調整と8-60 mbarのプロセス圧力の設定が可能になります。さらに、反応チャンバーは、プロセスのアプリケーションに応じて、25〜900°Cの間の温度をサポートすることができます。AIXTRON AIX 2800 G5は、各シャッターを独立して制御するデュアルシャッター設計を採用しています。これにより、同じチャンバー内の同じソースから2つの材料を堆積させることができます。さらに、原子炉は、アプリケーションの要求に応じて、バッチ処理と連続処理の両方を実行することができます。安全面では、AIX 2800 G5は危険物から保護するためにエンクロージャで構築されています。さらに、環境センサーは反応室内およびその周辺に存在します。これらのセンサは、プロセス環境を継続的に監視し、パラメータに変更がある場合にオペレータに警告します。これは、安全で効率的な操作を確保するのに役立ちます。全体として、AIXTRON AIX 2800 G5は、化合物半導体の生産のための強力なツールです。金属-有機化学蒸着（MOCVD）とデュアルシャッター設計を組み合わせることで、精密蒸着用に設計されており、1つのチャンバーに複雑なジョブを完成させることができます。このデバイスはまた、オペレータや機器の安全性を確保するフィルムの成長と環境センサーの正確な監視を備えています。