中古 AIXTRON AIX 2800 G4 #9248919 を販売中

AIXTRON AIX 2800 G4は、高度な半導体処理能力を持つIII-V半導体材料の製造用に設計されたエピタキシャルリアクターです。それは均一な、低温のドーパントのプロフィールおよび改善されたプロセス収率を提供する単一のウェーハ装置です。AIXTRON AIX2800G4は、4ウェハ容量を持ち、高温のインジウムチン酸化物コーティングされたサセプターを備え、MOCVDおよびOMVPEベースのプロセスで効率的な温度制御を実現します。この原子炉は、長期的な安定性とプロセスパラメータの正確な制御のために、バランスの取れた圧力システムを備えた高性能、低メンテナンスの石英チャンバを使用しています。単位は再現可能な結果、例外的な温度の均等性および精密なドーパントのプロフィールを可能にする精密で、反復可能で、精密なプロセス制御変数が可能です。さらに、AIX 2800G4にはプログラム可能なマルチゾーン温度コントローラが装備されており、プロセスチャンバー温度プロファイルを正確に制御できます。これにより、最適な結果を得るためのプロセスパラメータを正確に最適化できます。このマシンはまた、強化されたMOCVDとOMVPEプロセス制御と性能のための石英対流強化排気ツールを備えています。AIX 2800 G 4には、III-V材料をモノリシックに統合するための包括的なユーザーフレンドリーなプロセスソフトウェアパッケージが装備されています。このアセットには、簡単にウェハマスクをロードするためのノズルとトランスポートモジュール、簡単な監視と制御のためのAIXTRON GUIベースの視覚的プロセス制御ソフトウェア、およびリアルタイムの温度と圧力プロファイルが含まれています。また、クラスAフィルターや排気装置、プロセスチャンバーから有害物質を除去する排気システムを備えているため、安全性と環境安全基準に適しています。さらに、AIX2800G4は過酷な実験室環境で確実に動作するように設計されており、標準的な実験室またはオフィス環境に適合するのに十分なコンパクトです。全体として、AIXTRON AIX 2800G4は、プロセスの安定性、信頼性の高い性能、再現性を最大限の安全性で提供するように設計された先進的な原子炉であり、産業および研究用途に最適なツールです。