中古 AIXTRON AIX 2800 G4 IC #9256420 を販売中

AIXTRON AIX 2800 G4 ICは、半導体およびナノ材料のコスト効率が高く大量生産が可能な業界をリードする原子炉装置です。AIXTRONの先進的なMOCVD （Metal Organic Chemical Vapor Deposition）技術を活用し、高精度で複雑な半導体構造やフィルムを高度に制御することができます。AIX 2800 G4 ICは、さまざまな大量生産目標において、優れた成長の均一性、再現性、および低コストの所有コストを提供します。最大ウエハサイズ450mm、最大12個の独立したプロセスチャンバーを備えているため、自動生産プロセスに最適です。また、メンテナンス要件を最小限に抑えるように設計されており、動作中のクリーンな環境条件により、プロセスの再現性が向上します。このユニットのMOCPD技術（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）は、金属前駆体ガスの短絡パルス配信を利用して、コンフォーマルコーティングを作成します。これにより、Si、 GaAs、 GaInAs、その他の合金など、さまざまな基板上のナノメートルフィルムの均一性と再現性が高くなります。さらに、動的圧力制御、多機能コントロールカード、完全自動化されたマテリアルハンドリングツールを備えています。アセットは、転がりアニール、エピタキシー、金属有機CVD、物理蒸着など、さまざまなプロセス機能を提供します。さらに、PECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）により、Siや誘電層の表面パッシベーションが可能になります。AIXTRON AIX 2800 G4 ICは、GaN LED構造やGaAs MEMSなどの最先端の半導体デバイスも製造可能です。AIX 2800 G4 ICリアクターモデルは、優れた汎用性、均一性、再現性を提供し、高度な半導体デバイスのコスト効率の高い大量生産を実現します。MOCPD、 PECVD、およびその他のプロセス機能により、メンテナンス要件を最小限に抑えながら、複雑なデバイスを迅速かつ正確に作成できます。これは、高速半導体製造のための最先端技術を探しているすべての組織にとって理想的な選択肢となります。