中古 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305773 を販売中

AIXTRON AIX 2800 G4 HTは、高度な材料の効率的で信頼性の高いヘテロ構造の成長と堆積のために設計された金属-有機化学蒸着（MOCVD）原子炉です。この洗練された蒸着ユニットは、ホットウォール設計の4ゾーンプロセスチャンバーを備えています。その高度な温度制御ループは、高品質のヘテロ構造のための正確に再現可能な堆積条件を保証します。AIXTRON AIX 2800G4-HTはまた、LED、レーザー、太陽電池、電子機器の製造に使用されるさまざまな種類の材料の高純度の堆積のためのプロセスウィンドウを最大化するためのさまざまな機能を提供しています。AIX 2800G4 HTの最初の重要な特徴は、4ゾーンプロセスチャンバーです。この配置により、より効率的なプロセス制御が可能になり、ウェーハ全体の熱勾配を低減し、より均一な蒸着性能を提供します。プロセスチャンバーには、加熱されたトランスファーアームも装備されており、過剰なプロセス温度にウェーハを露出することなく、反応チャンバー内および外側に基板を素早く移動できます。さらに、AIX 2800G4-HTには高度な温度制御ループがあり、圧力変化や基板の向きに迅速に適応し、目的の温度範囲内にとどまります。AIX 2800 G 4 HTはまた、さまざまな蒸着アプリケーションのプロセスウィンドウを最大化するための高度な蒸着パラメータを提供します。それは異なった沈殿の調理法に使用することができる5つまで雑種化されたシャワーヘッドが装備されています。先進的かつ効率的なガス搬送装置により、前駆体をプロセスチャンバーに均一に分布させることができ、高度なプロセスモニタリングシステムは、最適な成長レシピに従ってプロセスパラメータを維持するのに役立ちます。AIXTRON AIX 2800 G 4 HTはまた、効率的な基板処理機構を提供します。最大3つの基板を同時に独立して取り扱うことができる互換性のある回転ユニットを備えており、高スループットを実現しています。この高精度ロボットは、プロセスチャンバ内のウェーハの正確な位置決めを保証し、長期安定した動作を実現します。最後に、その統合されたプロセス制御ソフトウェアはユーザーフレンドリーであり、オペレータの介入を減らすために高度なオートメーション機能の範囲を提供します。AIXTRON AIX 2800G4 HTは、LED、レーザー、太陽電池、統合エレクトロニクスなど、さまざまなアプリケーションに信頼性と再現性の高い蒸着性能を提供するために最適化された高度なMOCVDリアクタです。4ゾーンのチャンバーはプロセスパラメータを正確に制御し、高度な温度制御ループと自動ハンドリングマシンは効率的で信頼性の高い蒸着動作を保証します。