中古 AIXTRON AIX 2400/2600 G3 #9029074 を販売中

AIXTRON AIX 2400/2600 G3は蒸着の精密な制御のために設計されている半導体の沈殿炉です。この原子炉は、化学蒸着（CVD）、低圧CVD （LPCVD）、原子層蒸着（ALD）、物理蒸着（PVD）、マグネトロンスパッタリング、ダイヤモンド蒸着など、幅広い蒸着プロセスを提供しています。AIXTRON AIX 2400/2600 G3リアクターは、特定のプロセス要件に適合する一連のモジュラーコンポーネントで構築されています。それは低圧および温度の変化の高性能の処理、速い部屋の周期、速いポンプダウンタイムおよび堅いプロセス制御を提供します。この装置には、蒸着速度の温度と均一性を確保する正確な運動制御転写ロボットが装備されています。ロボットは、さまざまな用途に適した異なる基板形状とサイズで構成することができます。AIX 2400/2600 G3リアクターには、蒸着プロセスの正確な制御を可能にする高度なモーションコントロールシステムが装備されています。このユニットは、フィールドバスネットワーク、複数の運動軸、および堆積プロセス用に特別に開発されたインテリジェントソフトウェアマシンで構成されています。このツールは、蒸着速度、温度、圧力、およびその他の蒸着パラメータを正確に制御することができます。AIX 2400/2600 G3リアクターには、正確なプロセス監視を可能にするセンサーのクラスタも装備されています。これにより、プロセスパラメータのリアルタイム解析が可能になり、プロセスを正確に制御できます。AIXTRON AIX 2400/2600 G3は、動作中の安全性と信頼性を最大限に高めるように設計されています。原子炉は、火災やガス漏れの非常に低いリスクで動作するように設計されています。さらに、原子炉にはデュアルステージ圧力アセットが装備されており、プロセスパラメータの変化に迅速に反応し、モデルの損傷を防ぐことができます。最後に、AIXTRON AIX 2400/2600 G3原子炉は、プロセス管理の柔軟性を提供するように設計されています。モジュラー設計により、幅広いプロセスレシピ、スケーラブルな設計、およびカスタマイズされたプロセスパラメータが可能になり、幅広いカスタムアプリケーション要件が可能になります。これにより、プロセスの迅速な最適化と開発が容易になり、ユーザーはプロセスをより適切に制御できます。