中古 AIXTRON AIX 2000 #151220 を販売中

AIXTRON AIX 2000は、高度な化学蒸着（CVD）炉で、現在、高性能な研究開発のために多数の半導体製造および研究所で使用されています。この原子炉は、動的にバランスのとれたベルの概念に基づいており、粒子発生を低減するために非常に効果的であることが証明されたユニークな三重冷壁設計を特徴としています。また、先進制御システムを搭載し、グラフェン、GaAs MEMS、 CVDダイヤモンド蒸着などの工程で高精度を実現しています。また、AIX 2000はメンテナンスを最小限に抑え、長寿命を実現するよう設計されています。半導体蒸着用に最適化された材料で構成された大型の水晶チューブチャンバーを備えており、幅広いプロセス条件にわたって安定した再現性のある結果を保証します。リアクターの温度は用途に応じて自動的に調整でき、独立した加熱ヘッドを使用することで、ガス流量、処理圧力、ウェーハ温度を同時に調整することができます。さらに、このユニットには潜在的な危険のリスクを最小限に抑えるための多数の安全機能が装備されています。例えば、AIXTRON AIX 2000は、原子炉室内の適切な安全パラメータを確保するために、遠隔監視および制御技術を採用しています。それにまた部屋から余分な圧力を解放する特別に設計されていた圧力救助機械があります。センシングおよび制御技術は、常に最適な処理レベルを維持するのにも役立ちます。AIX 2000は、その優れた技術に加えて、ユーザーに便利な機能を提供します。内蔵の自動フィードスルーにより、ウェーハのロードとアンロードが簡素化され、統合されたRFIDツールにより、プロセス開始前にウェーハを迅速に識別できます。自動ガス浄化アセットは、チャンバー内の最高レベルの清浄度を確保するのに役立ちますが、自習AIベースの制御アルゴリズムは、速度と均一性の両方を最適化するのに役立ちます。全体として、AIXTRON AIX 2000は、優れた結果とともに、プロセスの比類のない制御：両方の世界の最高をユーザーに提供する高度なCVD炉です。このモデルの高度な機能と高性能のおかげで、現在では世界中の多くの研究所で半導体研究や製造に使用されています。