中古 AIXTRON AIX 200 #9359469 を販売中

AIXTRON AIX 200は、さまざまな基板上のデバイス・グレードの高品質の結晶材料層の成長に使用するように設計されたマルチウェーハ・バッチ型の成膜装置です。直径200mmまでの高解像度・高品質層を実現します。材料を最大8個の基板に小さなバッチで堆積させるように設計されており、プロトタイピングや研究目的に最適です。AIX 200は、標準的なシリコンターゲット源を備えたシングルゾーン平面マグネトロンスパッタリングユニットを備えており、シリコン、酸化ケイ素、窒化ケイ素などの材料の成長を可能にします。高度な自動化と使いやすさを実現し、厚さ、粒状構造、地形の均一性などの層の堆積パラメータを正確に制御できます。また、多波長オプティカルモニターとpH/Density/Thermal Measurement （pH/Density/Thermal Measurement）ツールを搭載しており、蒸着プロセス全体の層の品質を監視することができます。AIXTRON AIX 200には、直流（DC）電源、DCバイアス、加熱/冷却システムなど、多数の制御システムが装備されています。これにより、正確な温度制御が可能になり、優れた画層の均一性と画層の成長の一貫した品質が保証されます。また、AIX 200は高度な圧力制御機能を備えており、蒸着中のガス流入を調節し、所望の反応を正確に制御することができます。AIXTRON AIX 200には、多くの安全機能があり、資産の安全な運用を保証します。防爆シールなどの外部安全機能や、モデルを監視、制御、および保護するために設計された統合ツールのセットが含まれています。さらに、AIX 200には、人員運用のための安全な環境を確保するために設計された統合監視装置があります。全体的に、AIXTRON AIX 200は、さまざまな基板上のデバイス・グレードの高品質の結晶材料層の成長のための信頼性の高い、費用対効果の高いソリューションを提供します。直径200mmまでの高解像度・高品質のレイヤーを製造できるため、試作や研究に最適です。また、数多くの安全機能を備えており、人事業務の安全な環境を確保しています。