中古 AIXTRON 2600G3 HT #9270065 を販売中

AIXTRON 2600G3 HTは、新しい半導体アプリケーション、特に高温（HT）プロセスへの研究開発のために設計された原子炉です。この原子炉には、400°Cまでの温度が可能な高度な温度制御装置が装備されています。また、サセプタアセンブリと3次元（3D）サセプター、リニアおよび円錐形のガス注入グリッド、高精度のモーションコントロールシステムを備えており、正確な基板位置決めが可能です。AIXTRON 2600 G3 HTは多くのフィルムおよびエピタキシーの適用のための大きいプロセス柔軟性の高性能システムです。反応チャンバーは、最大4800Wの電力を提供する広い設計範囲を持っています、200-400Wで瞬時の電力と。また、変調されたパワーユニットを備えており、微調整の蒸着プロセスの周波数とピーク電力の変化を可能にします。2600G3 HTには、高度なプロセスコントロールマシンが統合されており、プロセス制御を自動化したユーザー定義の蒸着プログラムをサポートしています。そのコンピュータ制御サブシステムは、蒸着中に、ソース・ガス・フロー、プラズマ・パワー、基板温度、基板バイアス、不活性ガス圧力などのプロセスパラメータを監視および調整します。2600 G3 HTは、高温プロセスに対応し、汚染のリスクを低減できる超高真空システム（UHV）で設計されています。設計パラメータにより、GaN、 GaAs、 ZnSeなどの化合物半導体の製造に適しているほか、幅広い三次化合物に適しています。AIXTRON 2600G3 HTは、低温（LT）や水素化アモルファスシリコン（a-Si： H）を含む光学材料との薄膜蒸着にも適しているため、光学およびLED産業の研究者やエンジニアにとって有益です。安全性と安定したパフォーマンスのために、アセットは異常な動作条件を検出するための高度な診断システムを備えています。その高度な診断は、チャンバーの状態とガス圧力レベルを監視することにより、汚染のリスクを低減するのに役立ちます。全体として、AIXTRON 2600 G3 HTリアクターは、半導体、LED、および光学産業向けの研究および製品開発に最適なモデルです。安全で信頼性が高く、HTプロセスを実行し、正確なプロセス制御に到達することができます。自動化されたプロセスと統合診断は、研究者の仕事と結果が一貫した品質であることを保証します。