中古 AIXTRON 2600 G3 #9270061 を販売中

AIXTRON 2600 G3は、さまざまな薄膜の大面積の堆積のためのハイエンドパルスプラズマ強化化学蒸着（PECVD）原子炉です。この原子炉は、半導体、太陽電池、ディスプレイ生産の厳しい要件を満たすために、高度な処理能力を備えて設計されています。AIXTRON 2600G3は、精密電圧制御、RFポテンショメトリー、簡単な拡張可能なプロセス機能など、幅広い自動オプションを備えています。この装置は、最大30バッチのリモートバッチ処理を同時に可能にします。2600 G3はまた、高度な多段ガスフロー制御、石英チューブプロセスチャンバー、改良されたN型ガスフローシステム、および統合監視ユニットを提供します。2600G3はプロセスおよびflaの生産のための多くの利点を提供します。この原子炉は、幅広い自動加工部品を備えており、広範囲にわたって均一な蒸着を可能にし、優れた精度を発揮します。薄膜成膜速度を向上させるための高いプラズマ負荷を提供します。さらに、この原子炉は、最適なプラズマ形成と制御を可能にする高度な温度制御機能を備えています。AIXTRON 2600 G3の合理的なガス流量機械は、蒸着を正確に制御するためのガス流量を最大化します。この原子炉はまた、軽量でコンパクトな設計を提供しています実験室の使用だけでなく、産業プロセスのアプリケーションに最適です。さらに、AIXTRON 2600G3は、過酷な産業環境での動作のために特別に設計されています。結論として、2600 G3は半導体、太陽電池、ディスプレイ産業における薄膜蒸着のためのハイエンドで自動化された原子炉です。この原子炉は堅牢で、複数の自動処理部品を提供しています。強化されたガス流量制御、温度制御、および電力制御を備えています。2600G3にまた実験室および産業プロセスの適用のために適したように軽量および密集した設計があり、粗い環境で作動するように設計されています。