中古 AIXTRON 2400G3 HT #9254484 を販売中

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製造業者
AIXTRON
モデル
2400G3 HT
ID: 9254484
ヴィンテージ: 2006
MOCVD System Epitune: 11" x 2" 2006 vintage.
AIXTRON 2400G3 HTは、高温3ゾーンの誘導結合プラズマ炉です。これは、酸化物、III-V化合物、金属薄膜の成長などの高度な堆積プロセスのために設計されています。この原子炉はユニークな3ゾーン構成で、高温プロセスに最適です。この3つのゾーンは、ソースチャンバー、るつぼ、プラズマチャンバーで構成されています。源の部屋はプロセスの最初のステップであり、加熱された原料は石英のるつぼに置かれ、次に真空の部屋に導入される。真空が作成されたときに非常に高い温度は、空気がないためチャンバー内で達成されます。源の部屋の温度は1800°Cまで達することができます。第二は、ソースチャンバーの真下にあるるつぼステージです。ここでは、材料は誘導的に加熱され、溶融されます。この溶融材料はプラズマ室でさらに加熱されます。ここでは、使用されている材料に応じて、温度は750°C〜2000°Cの範囲にすることができます。プラズマチャンバーは、プロセスの3番目と最終段階です。その中で、プラズマは外部ソースからのガスの導入によって作成されます。チャンバーにはインダクタコイルも含まれており、プラズマの温度をさらに高めるために使用されます。また、基板材料を加熱してあらかじめ洗浄し、堆積物を受け取る準備ができていることを確認することができます。AIXTRON 2400のG3-HT炉は他の原子炉より多くの利点を提供します。それは他の原子炉よりも高い温度を達成することができるので、高効率です。また、非常に小さな厚さの材料を高精度で均一に堆積させることができるため、精密です。さらに、他の原子炉よりも高速であり、材料コストと人件費を削減するため、費用対効果が高い。全体として、2400 G3 HTは多目的で信頼性の高い原子炉であり、幅広いツールと機能を備えています。これは、従来の原子炉よりも高速で極めて高い温度を達成することができ、高精度で均一な材料の薄膜を堆積するのに十分な精度であるため、多種多様な蒸着プロセスに最適なソリューションです。
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