中古 AIXTRON 2400G3 HT #9254482 を販売中

AIXTRON 2400G3 HTは、半導体製造用の高品質III-V化合物など、先進的な薄膜材料の成膜用に設計された最先端の垂直原子炉です。標準のAIXTRONシステムと同じ強力な機能の多くが組み込まれていますが、スループットの向上と生産性の向上のための革新的なHT設計が追加されています。高度な制御システムを備えたAIXTRON 2400 G3-HTは、生産プロセスにおける最高レベルの柔軟性とパフォーマンスをユーザーに提供します。2400 G3 HTは3チャンバー設計を採用し、ロードロックチャンバー、ワーキングチャンバー、アンローディングチャンバーを備えており、それぞれ個別の温度制御により熱安定性を向上させています。ワーキングチャンバーは、1200°Cまでの加熱が可能なエフュージョンソースを備えており、独立して冷却することもできます。ワーキングチャンバーは、HiPIMS （High Power Impulse Magnetron Sputtering）タイプのマグネトロンの内部に囲まれており、強力な磁場があり、大小の領域の堆積が可能です。2400 G3-HTには、蒸着プロセスを監視するための高精度の光路も組み込まれています。AIXTRON 2400 G3 HTから最高の性能を得るためには、頻繁なメンテナンスと校正を行うことが重要です。これには、ロードロックおよび作業室の定期的な洗浄と、最高精度の蒸着を確保するための光路のキャリブレーションが含まれます。さらに、2400G3 HTには、in-situモニタリングや高度なプラズマ/計測ソリューションなどの高度なプロセス制御システムを搭載し、最良の材料結果を保証することができます。全体として、AIXTRON 2400G3 HTは、ハイテク用途向けの高性能材料成膜に最適なツールです。その高度な機能と精密な制御システムにより、ユーザーはこの強力な原子炉から最大の効率と最高の材料の結果を期待することができます。