中古 AIXTRON 2400 G2 #9018984 を販売中

AIXTRON 2400 G2は、グラフェン、半導体材料、およびその他のナノ材料の製造用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。シングルウェーハリアクターで、800°C〜1300°Cの温度で動作します。2400 G2は、選択した温度まで加熱されるメインチャンバーで構成されています。このチャンバーは真空ポンプに接続されている真空容器によって囲まれています。チャンバーは2つのリアクタントガス源で構成されており、リアクタントとその前駆体とともにチャンバーに送り込まれます。チャンバー内では、リアクタントは制御された温度および圧力条件下で基板（被覆される材料）と反応します。AIXTRON 2400 G2には、電気供給装置が装備されており、プラズマエネルギーで成長する材料を奨励するパルスプラズマ蒸着システム（PPDS）が内蔵されています。これは、材料の均一な堆積を達成するのに役立ちます。さらに、このユニットは、異なる種類の材料のリアクタントガスの蒸着速度を制御する能力を持っています。このチャンバーは完全に自動化されており、ガスと基板の温度、チャンバ内の圧力、および蒸着プロセスに使用されるガスの体積を監視および維持する温度および圧力センサーを備えています。この機械は、自動シャットオフ機構や過圧保護などの安全機能も備えており、堆積中に危険なイベントが発生しないように設計されています。最後に、2400 G2には、専用のアルゴリズムとグラフィカルユーザーインターフェイスを利用する効率的な制御ツールが装備されています。データロギング機能を内蔵しており、異なるレベルのオートメーションで操作できます。さらに、この資産には、堆積物を分析するための光放射分光法（OES）などのソフトウェアベースの分析ツールが含まれています。これは、ユーザーのための正確かつ反復可能な結果を得るのに役立ちます。