中古 AIXTRON 2000 HT #9408163 を販売中
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ID: 9408163
ヴィンテージ: 1997
MOCVD System
Nitride (GaN)
Planetary reactor
Gas foil rotation
Throughput: 7"x2"
EBARA Dry pump
PC Controller
Source configuration:
TMG
TMA
Cp2MG
TEG
TMI
TMSb
1997 vintage.
AIXTRON 2000 HTは、様々な材料の堆積のために設計された高度な高温CVD炉です。それは1000°Cまで温度に達することができる高度のマルチゾーンの真空部屋を特色にします。2000 HTは汎用性が高く、ベアウェーハ蒸着、コンフォーマルコーティングなど、さまざまなCVDプロセスに使用できます。また、各ゾーンの独立したゾーン制御と温度制御を備えています。AIXTRON 2000 HTは強力な電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ源によって動力を与えられます。この強力なソースは、良好な均一性と再現性を提供し、チャンバーに非常に迅速な起動時間を与えます。このチャンバーは、炭化ケイ素の堆積などの電子アプリケーションにとって重要なプラズマを生成するために水素ガスを使用することもできます。2000 HTはまた材料の沈殿および回復に使用することができるさまざまなeビーム源が装備されています。AIXTRON 2000 HTはまた、ウェーハの安全で効率的なローディングとアンロードのための油圧ローダーを備えています。これは、多数のウェーハを必要とするアプリケーションや、頻繁にウェーハを変更する必要があるアプリケーションに特に役立ちます。また、高圧および低圧のインターロックや圧力監視など、チャンバー内の誤った圧力過負荷を防ぐための多くの安全機能も備えています。2000 HTにまた利用できる付属品およびソフトウェアサポートの広い範囲があります。これらのオプションにより、システムの機能が拡張され、異なるアプリケーションやプロセスでの原子炉の使用が容易になります。このソフトウェアを使用すると、プラズマ源や室圧、各ゾーンの温度などのシステム動作を簡単に監視および制御できます。全体として、AIXTRON 2000 HTは、幅広いCVDプロセスに最適なパワフルで汎用性の高い信頼性の高いCVDユニットです。それは使いやすく、維持すること容易な機械であり、利用できるソフトウェアおよび選択の広い範囲はそれをよりユーザーフレンドリーおよび可能にします。
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