中古 AGS MPS-150-RIE #9078689 を販売中
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ID: 9078689
Advanced plasma system
For Reactive Ion and Plasma Etching (RIE / PE)
MPS-150 Base module:
Assy, console, MPS-150
Assy, chamber, MPS-150
Assy, power distribution, MP-TCU
Assy, interlocks, RIO
Assy, harness, RIO/RS232
Assy, facilities, CLP08
Assy, controller, APC2014-PPLC
Configuration options for RIE:
Assy, electrode, RIE-150
Assy, plasma source, RF120w
Assy, vacuum, ISO63, 1CG
Assy, pressure control, 1T
Assy, dry pump, 8cfm-plasma
Assy, gas deck, 5-Channel
Assy, heater jacket, wall
Mass flow controller options:
Assy, MFC, standard
Assy, MFC, toxic
Other options:
Upgrade, plasma source: RF300w
Upgrade, pump, dry: 70cfm-Plasma
Turbo package? 70lps-Plasma
Turbo package: 250lps-Plasma
Turbo package: 300lps-MagLev
Ion gauge KF
Temperature controller: 10-35C
Temperature controller: 10-60C
Electrical: 208 VAC, 30 Amp, 50/60 Hz, 4 Wire, 5 Pin IEC
Compressed air and nitrogen: 80-100 PSI, 1 CFM, 1/4” QC
Process gas: 15 PSI, UHP, 100 sccm, 1/4” male VCR
Exhaust: 50 CFM, <0.5 mmHg, KF40
Cooling water: 30-60 PSI, 1-2 GPM, 3/8” QC.
AGS MPS-150-RIEは、今日の研究および産業用途のニーズを満たすように設計された高品質の研究および産業用電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマエッチング装置です。半導体加工、MEMS、 PDTなどの高品質・高精度を必要とする薄膜エッチング、成膜プロセスに特に適しています。MPS-150-RIEにそれを現代研究および産業適用のために適したようにするさまざまな特徴があります。このプラズマは、高温ECR源を使用して生成されます。これは、正確な電力条件下でプロセスを制御するための非常に効率的で非常に精密なツールです。さらに、ECRソースは、パルスやバーストモードなどのさまざまなシャッターモードで動作することができ、エッチング工程の正確な制御と蒸着厚の正確な制御が可能です。ECR源には、さまざまなプロセスパラメータのために必要なイオンを表面に供給する機能もあり、基板表面上の均一な分布を可能にします。このフラックス制御システムは、12個の独立したガスチャネルを使用し、高度に自動化されたガスブレンダーを備えているため、プロセスチャンバー内のガス濃度を簡単に制御できます。このユニットには、最適な動作条件を確保するための温度および圧力測定システムも装備されています。AGS MPS-150-RIEは、高精度のECR源に加えて、その能力をさらに高めるために、さまざまな周辺機器を装備しています。この周辺機器には、高度なプロセスモニタリングツール、高度なプラズマ特性測定ツール、ロードロックやロボティクスなどの真空処理装置が含まれています。この機械は非常に堅牢で信頼性の高い構造設計で構成されており、幅広いプロセスパラメータを処理することができます。プラズマ閉じ込めツールは、均一なエッチングを保証するために、プラズマがチャンバー全体に均等に分布することを保証します。エッチングアセットには、エンドポイント検出の自動モデルも装備されており、機器は所定の場所でプロセスを停止し、再現可能なエッチング結果を保証します。MPS-150-RIEは、高精度のECRソース、信頼性の高い堅牢な設計、および幅広い周辺機器により、研究および産業用途に最適な機器です。このモデルは、ユーザーが優れた生産性と精度で均一で繰り返し可能なプロセスを生成できる機能とパフォーマンスを提供します。
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