中古 SHIMADZU TMP-H3153LMC #293752624 を販売中

SHIMADZU TMP-H3153LMCは、半導体製造、分析機器、研究など、さまざまな業界の高真空アプリケーションで使用するために設計された高性能ターボ分子ポンプです。堅牢な設計と高度な機能を備えたこのポンプは、要求の厳しい真空システムに信頼性の高い効率的な性能を提供します。TMP-H3153LMCの主な特徴の1つは、真空チャンバーからのガスの迅速な避難を可能にする高いポンプ速度です。これにより、ユーザーは高真空レベルを迅速に達成し、維持することができ、圧力と清浄度の正確な制御が必要なアプリケーションに最適です。このポンプは分子ドラッグの原理に基づいて動作し、回転するブレードはガス分子を押し込み、排気に向かって加速し、部分的な真空を作り出します。ポンプの設計には、消費電力を最小限に抑えながらポンプ効率を最大化する特別に設計されたブレードを備えた多段ロータが含まれています。SHIMADZU TMP-H3153LMCは、ポンプパラメータの監視と制御を容易にする統合コントローラを備えています。ユーザーは、ポンプ速度、方向、およびその他の設定を調整して、特定のアプリケーションのパフォーマンスを最適化できます。コントローラには、過熱、過負荷、およびポンプを損傷する可能性のあるその他の問題を防止するための保護機構が内蔵されています。このポンプは、長期的な信頼性と耐久性を保証する頑丈な構造で、厳しい環境での継続的な動作のために設計されています。ポンプのハウジングは腐食性ガスおよび高温への露出を含む厳しい条件に耐えることができる良質材料からなされます。TMP-H3153LMCは、ユーザーが定期的なメンテナンス作業を迅速かつ効率的に実行できるアクセス可能なサービスポートを備えた簡単なメンテナンスのためにも設計されています。これには、ポンプのクリーニング、摩耗部品の交換、および最適な性能を確保するための診断チェックが含まれます。SHIMADZU TMP-H3153LMCは、仕様面ではX l/s （1秒あたりリットル）のポンプ速度とX mbarの究極の圧力を提供し、幅広い高真空アプリケーションに適しています。このポンプは、業界標準をはるかに下回る振動と騒音レベルを最小限に抑えながら、静かかつ効率的に動作します。全体として、TMP-H3153LMCは信頼性の高い性能、効率的な操作、および要求の厳しい真空アプリケーション用の高度な機能を提供する高品質のターボ分子ポンプです。堅牢な設計、メンテナンスの容易さ、正確な制御機能を備えたこのポンプは、システムの高真空レベルを達成し維持するために探しているユーザーにとって理想的な選択肢です。