中古 EDWARDS SCU-H1303 #293807672 を販売中

EDWARDS SCU-H1303は、さまざまな半導体、ナノテクノロジー、フラットパネルディスプレイ、およびその他のハイテク産業の厳しい要件を満たすように設計された、洗練された高性能の乾燥半導体真空ポンプです。高度な技術と革新的な機能を備えたこのポンプは、真空システムの信頼性、効率、および性能の面で新しい標準を設定します。SCU-H1303の中心には、実績のある信頼性の高いスクロールポンプ機構があります。このドライポンピング技術は、真空機器のオイルの必要性を排除し、よりクリーンな真空環境とメンテナンス要件の削減に貢献します。スクロールデザインは、三日月形のチャンバーのシリーズを作成する2つのインターリーブスパイラルスクロールで構成されています。巻物の軌道上では、ガスが圧縮されてシステムからポンプで送り出されるため、高いポンプ速度と低い究極の圧力が得られます。EDWARDS SCU-H1303ポンプには高速ダイレクトドライブモーターが搭載されており、プロセスチャンバーからガスや蒸気を迅速に排出します。モータは高速で連続動作するように設計されており、要求の厳しいアプリケーションでも効率的で信頼性の高い性能を保証します。さらに、ポンプは、モータ速度とポンピングプロセスを最適化し、最大の効率と安定性を実現する高度な制御アルゴリズムを備えています。SCU-H1303の主な特徴の1つは、複雑な真空システムへのシームレスな統合を可能にするインテリジェント制御ユニットです。ポンプには、速度、圧力、流量などのポンピングパラメータを正確に制御できるコントローラが内蔵されています。さらに、ポンプを外部制御システム、PLC、およびプロセスツールに簡単に接続してシームレスな操作と監視を行うことができます。EDWARDS SCU-H1303ポンプは、高い信頼性と稼働時間を実現するよう設計されており、重要な半導体製造プロセスに最適です。高度な温度センサとモニタリングシステムを備えており、最適な動作条件を確保し、ポンプの過熱と損傷を防ぎます。このポンプには、誤動作を防ぎ、安全な動作を確保するために、自動シャットオフや障害検出などの保護機構が内蔵されています。性能面では、SCU-H1303は印象的なポンピング速度と究極の圧力を提供します。ポンプは最大1300 m3/hのポンプ速度を達成することができ、小規模な研究室から大規模な産業プロセスまで、幅広い用途に適しています。ポンプの究極の圧力は1x10-6mbarの範囲にあり、高真空レベルを確保し、敏感なプロセスのためのクリーンでパーティクルフリーな環境を確保します。全体的にEDWARDS SCU-H1303ポンプは、最先端の技術、信頼性、性能を兼ね備えており、半導体およびハイテク産業に最適です。その高度な機能、インテリジェントコントロールマシン、高速動作により、幅広い真空アプリケーションに対応する汎用性と効率的なソリューションです。コンパクトな設計、低いメンテナンス要件、および高いポンピング速度により、SCU-H1303ポンプは真空システムの性能と信頼性を向上させたい企業にとって貴重な資産です。