中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2033 C2 #99896 を販売中

ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 2033 C2は産業および科学的な設定の超高真空の適用のために設計されている高性能の3段階の拡散ポンプです。このモデルは、速度、究極の真空、および冷却能力の面で最高レベルの性能を提供するために再設計されました。ADIXEN 2033 C2には、低温を可能にする革新的なセラミック冷却チャンバーが装備されており、ガス分子クラスターの形成を最小限に抑え、ポンプ速度を低下させることができます。セラミックチャンバーはまた、オイルの寿命を向上させ、メンテナンスを容易にし、ポンプの摩耗を軽減します。最新バージョンのALCATEL 2033C2は、より高速でより高い真空能力を可能にするために再設計されたドライブトレインを備えています。ドライブトレインの堅牢な設計と構造により、ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 2033C2非常に効率的で信頼性が高くなります。防塵設計により、汚れやその他の汚れがポンプに侵入したり、その性能を妨害したりすることはありません。PFEIFFER 2033C2は、3つの独立した拡散ポンピングステージとリフトポートを備えており、どちらも超高真空レベルでの長期的で信頼性の高いパフォーマンスに必要です。リフトポートは、蒸気分散を低減し、各ステージの独立した可変速度動作を可能にしてパフォーマンスを最適化するように設計されています。ADIXEN 2033C2はポンプを潤滑させ、改善された圧力調整を提供するtwostageの機械シールシステムが装備されています。オイル充填ラインは、オイルの充填と排出を容易にし、内蔵の排水はクリーンなオイルのみを使用することを保証します。排他的な「オイルミスト」システムは、油粒子からの汚染を低減し、ポンプをより効率的かつ経済的にします。PFEIFFER 2033 C2は、最大1,200 cfmの超高速で空気を避難させることができ、圧力は7 x 10-9 Torrまでです。また、汚染物質の捕捉・低減においても非常に効率的であり、より新しく、より高度な真空加工材料を使用することができます。2033C2は広範囲の真空システムと互換性があり、超高真空レベルを達成するために高性能の方法を要求する産業および科学的環境のための優秀な選択です。