中古 SEMICS Opus3 #9220173 を販売中
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販売された
ID: 9220173
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2017
Prober, 12"
Linear stage system
Cassette map with sensor
Motorized 3 leg
VNC Support
5 Fixed tray
Specification:
Thickness: 300 µm - 2000 µm
Die size: 350 µm - 100,000 µm
Prober card handling:
Shape: 350Φ/480Φ/520Φ
Thickness: Maximum 50 mm
Prober unit:
Position accuracy:
X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm
Contact accuracy:
X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm
X/Y Probing area:
X: ± 175 mm
Y: ± 185 mm
Maximum speed: 500 mm/s
Z Axis:
Z Stroke: 40 mm
Contact setting range: 1-10 mm
Drive method: AC Servo motor
Accuracy: ± 1 µm
Maximum speed: 50 mm/s
Rigidity for needle force: 300 kg
Θ Axis:
Rotation stroke: ± 5.0°
Drive method: Stepping motor
Control resolution: 0.0001°
Chuck top:
Planarity: ≤ 10 µm at Ambient
Temperature range: Ambient ~ 150°C
Alignment method:
Image pattern matching
Optic auto-focus
Loader rotation axis:
Maximum rotation speed: 270°C /sec
Drive method: Stepping motor
Control resolution: 0.006°
Pre-aligmnent unit:
Maximum rotation speed: 360°/sec
Accuracy: X,Y ± 100 µm
Control resolution: 0.036° (R=150 mm, 95 µm)
Computer:
CPU: I5 Dual core 2400 3.0 GHz
HDD: 500 GB
Memory: 3 GB
System disk: USB
Monitor: Touch screen, 15"
OS: Window XP
2017 vintage.
SEMICS Opus3は、プロセス監視と制御のために業界で広く使用されているマルチパラメトリックプロセス最適化ツールです。大小の操作に適した多目的ツールです。SEMICS OPUS 3は、統計分析と予測分析の両方を実行して製造プロセスの洞察を獲得し、改善の潜在的な領域を特定することができます。トレンドの分析、変動の根本原因の解明、プロセスパラメータの改善に使用される生のプロセスデータとポストプロセス情報の監視と収集によって機能します。Opus3は、高度なプロセス監視アルゴリズムを使用して根本原因分析を行い、製品の品質またはプロセスの一貫性の改善につながる可能性のあるプロセスパラメータを特定します。このソフトウェアを使用すると、プロセスの詳細な変更を行い、プロセスの歩留まり、製品品質、およびプロセスの一貫性に対する影響を監視できます。さらに、OPUS 3は予防的なメンテナンスと生産スケジューリング機能を提供し、生産サイクル時間の最適化とダウンタイムの削減に役立ちます。さらに、Statistical Process Control （SPC）チャート、パラメトリック分析、機能検討、予測モデルなどの統計ツールを提供し、プロセスの最適化を支援します。SEMICS Opus3はまた、強力なリアルタイムデータ視覚化とレポーティングツールを提供し、ユーザーがプロセスのパフォーマンスと潜在的な改善領域をすばやく表示できるようにします。これらのツールを使用すると、複雑な傾向の特定、監査、分析、プロセスのパフォーマンスの異常の検出、プロセスの最適化の履歴変更の詳細なレポートの作成が可能になります。このソフトウェアには、I/O信号コンディショニング、信号変換、および効率的なプロセス管理のための制御機能が組み込まれています。これにより、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を使用して、複雑な機器操作を制御および監視できます。さらに、ソフトウェアは、安全なデータ収集とマシン間のコラボレーションを容易にするために、さまざまな通信プロトコルをサポートしています。全体として、SEMICS OPUS 3は、さまざまな高度な機能を備えた強力で汎用性の高いプロセス最適化ツールです。パワフルなリアルタイム分析ツールにより、プロセスパラメータの特定と改善を支援し、ダウンタイムを最小限に抑えて生産サイクル時間を最適化するための強力な監視と制御機能を提供します。また、そのインタフェースと通信プロトコルの広い範囲は、ソフトウェアは、産業の広い範囲に適しています。
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