中古 ZEISS B12 #9245013 を販売中

ZEISS B12は、ナノ加工用途向けに設計された最先端のフォトレジスト機器です。それは速く、正確、信頼できる抵抗の層の沈着およびパターン化が可能です。このシステムは、電子ビームとレーザー技術を組み合わせて、50ナノメートル以下のリソグラフィ分解能と最高の達成可能なマスクレス製造ルーチンを実現しています。ZEISS B-12は、電子ビームコラム、高真空トラック、自動レジストコンフォメーション、統合レシピユニットで構成されています。イメージング源である電子ビームはレジスト層を露出するために使用され、基板を動かすために高真空トラックが使用されます。統合されたレシピは、再現可能な結果を確保するために、所望のエネルギー、用量、およびビームパラメータを事前にプログラムすることができることを保証します。さらに、パターニングのための最高解像度を確保するために、マシンは、露光プロセス中にフォーカスとドリフトを修正する強力なフィードバック制御補正アルゴリズムを採用しています。B12レジスト層は、ナノコンテナ、ナノ構造、ナノ粒子、ナノ材料などの様々な用途に使用できます。さらに、このツールは、バッチ、マルチレベル、マルチポイント、ハイスループットなど、さまざまなアプリケーションのさまざまなモードで操作できます。B-12の基板段は、ウェーハ、ガラススライド、真空対応エッチング基板などの任意の基板にも対応可能です。さらに、ZEISS B12は高感度であり、幅広い用量レベルで動作するため、非常に小さな機能を印刷することができます。これにより、ZEISS B-12は量子ドット、高密度MEM、センサー、生体医学ナノシステムなどのアプリケーションに最適です。さらに、B12で形成されたレジスト層は非常に安定していることが証明されており、長期保管および再利用に適しています。結論として、B-12は、高精度ナノ加工アプリケーション用に設計された強力で信頼性の高いフォトレジスト資産です。イオンビームとレーザー技術を組み合わせて高分解能パターンを生成し、複数の基板と露光モードを提供します。統合されたレシピモデルは、反復可能な結果を保証し、強力なフィードバック制御アルゴリズムは、露出プロセス中にフォーカスとドリフトを修正します。さらに、ZEISS B12によって形成されたレジスト層は非常に安定していることが証明されており、長期保管および再利用に最適です。