中古 YSYSTEM Ywafer mapper GS2 #293627974 を販売中

YSYSTEM Ywafer mapper GS2は、YSYSTEMによって設計されたフォトレジスト機器です。薄膜フォトレジストパターンを大面積の基板に正確にアライメントし、露出するように設計されています。Ywafer Mapper GS2は、高度な機能を備えたマイクロコントロールの評価システムで、高い安定性と比類のない性能を提供します。YSYSTEM Ywafer mapper GS2は、高精度、高精度の高品質フォトレジストパターンの生産を可能にする最先端のフォトリソグラフィーユニットです。レーザダイオード位置決め機を備えた高度なアライメント方式を採用しており、あらゆるサイズの基板を正確にアライメントできます。このツールには、最大200mmの最大4つのウェーハを保持できるウェーハフレームが付属しています。静的なテーブルは基質へのフォトレジストの安定した、低振動の露出を保障します。YwaferマッパーGS2の光学アセンブリは、高解像度のイメージングレンズとシャッターアセットで構成されています。シャッターモデルでは、フォトレジストパターンをウェーハに露出させ、≤ 1msの高速露出時間を実現しています。露出時間は非常に調節可能であり、広範囲の強度レベルへの露出を可能にします。YSYSTEM YwaferマッパーGS2は、露出環境を制御するための4ゾーン加熱装置を備えた完全に密閉されたコンピューター制御露光チャンバーを使用しています。高度な温度制御システムは、熱電対を使用して、ウェーハの全領域にわたるフォトレジストパターンの均一な露出環境と均一な露出を保証します。単位の統合されたコントローラーは容易な操作および強力なイメージ投射機能を可能にします。コントローラには、ツールの設定を簡単に設定し、露出データを処理するためのWebベースのデータ管理マシンが装備されています。Ywafer Mapper GS2は、高解像度の大面積の基板にフォトレジストの精密露光を提供する、効率的で信頼性の高いフォトリソグラフィ資産です。レーザダイオード位置決めモデル、シャッター装置、4ゾーン加熱システムなどの高度な制御機能により、フォトレジストの均一で高品質な露出を保証します。