中古 WERNER MATHIS LFT #9069946 を販売中

WERNER MATHIS LFTは、マイクロエレクトロニクスデバイス製造に使用されるフォトレジストシステムの一種です。これは、ベンゾトリアゾールポリマーの負フォトレジスト層とLFT （Latent Functional Thickness）の酸感受層の2層からなるサンドイッチ構造に基づいています。この組み合わせは、基盤となるフォトレジスト層とウェハ表面のゲートキーパーとして機能します。紫外線にさらされると、酸感受性のWERNER MATHIS LFT層が反応し、下のフォトレジストのマスクとして機能する粘性膜を形成します。フォトマスクを介してウェーハに紫外線を印加すると、光の強度に応じてフォトレジスト層の選択的に反応する領域を露出またはカバーすることができます。その後、フォトマスクの位置を調整して、ウェーハ上の各デバイス層を適切にパターン化します。ポリマーフォトレジストは、開発とベーキングプロセスを受けた後、ウェーハの表面に薄い層を形成し、それは最初に光感受性層に形成されたパターンと類似しています。フォトレジストが露出して硬化すると、酸感受性LFTの薄い層が残ります。これは、フォトレジストとウェーハの表面の間の保護「ゲート」として機能します。基層へのこの絶対的な過失は、デバイス要素の正確なパターン化を保証します。その結果、このフォトレジストシステムは、半導体製造関連分野を中心に、幅広い産業で利用されています。他のフォトレジストシステムと比較して、WERNER MATHIS LFTシステムは優れた解像度と堅牢性を提供します。LFTとポリマーの特定の組み合わせを使用することで、フォトレジストと基板の間の良好な接着も可能になります。さらに、WERNER MATHIS LFTフォトレジストシステムは、開発プロセスの相対的な速度により、大量のウェーハを短時間で正確にパターン化することができます。全体として、LFTフォトレジストシステムは、幅広い電子デバイス製造アプリケーションに最適なソリューションです。酸感作されたWERNER MATHIS LFTと技術的に高度なポリマーの組み合わせは、優れた解像度、良好な接着性、および迅速な開発プロセスを提供します。