中古 VERTEQ 1600-55M #9253113 を販売中

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipmentは、フォトレジストアプリケーションに最適化されたイメージングソリューションを提供するために設計されたモジュラープラットフォームです。このシステムは、さまざまなフォトレジスト技術の高精度イメージングのニーズに対応します。シングルトランスポートまたはデュアルトランスポートを備えた幅広いフォトレジストを使用するように構成されており、最大200mmの基板の加工が可能です。このユニットは、高いスループット能力、優れた画質を提供し、さまざまなプロセスフローに簡単に統合できます。1600-55Mは、光学、反射、透明なイメージングコンポーネントで構成可能です。光学イメージングは、3つのスキャンオプトエレクトロニクスサブシステムを介して行われます。トップオプトエレクトロニクスはシングルビームスキャナで、2つのサイドオプトエレクトロニクスはマルチビームスキャナです。スキャンオプトエレクトロニクスは、高出力光学を利用しており、その結果、低ラインスプレッド機能を備えた高分解能イメージング機能を実現しています。また、高解像度の光画像拡大機は、小さな領域の機能のためのツールに統合されています。この反射イメージングサブシステムは、Laser Interferometric Magnification （LIM）光学系で構成されており、平面および非平面表面のイメージングを可能にします。サイドオプトエレクトロニクスは、LIM光学とともに、高精度かつスループットのステップ構造のイメージングを提供します。一方、透明なイメージングサブシステムは、X線光学系との接触イメージングを可能にし、3D構造でも優れたイメージング結果を提供します。さらに、VERTEQ 1600-55Mには幅広いイメージングパラメータが搭載されており、さまざまなフォトレジスト用途に最適なイメージングが可能です。これらのパラメータには、高精度なアライメント、露光時間の最適化、線量計算、光学補償が含まれます。直感的なユーザーインターフェイスにより、アセットの設定とパラメータの選択が簡素化され、効率的で最適なイメージングプロセスが保証されます。さらに、複数のフォトレジストタイプを複数のプロセスで処理できるため、さまざまなフォトレジストアプリケーションに最適なソリューションです。全体として、1600-55M Photoresist Equipmentは優れたイメージング機能と高いスループット機能を提供します。優れた画質、高度に構成可能なイメージングパラメータ、さまざまなプロセスフローとの柔軟な統合により、このシステムはさまざまなフォトレジスト技術に最適なイメージングソリューションです。