中古 VERTEQ 1600-55M #9245629 を販売中

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipmentは、さまざまな基板上のフォトレジストパターニングのための高度なフォトリソグラフィーシステムです。このユニットは、10 μ mまでの高解像度パターンを露出するだけでなく、大型基板の露出に最適なソリューションです。6インチのアクティブスキャン領域にわたって一貫した照明強度を生み出すLEDベースの光源で、正確な露出均一性と解像度を備えています。幅広い波長をサポートし、マスク画像の所望の波長および偏光状態に一致するフォトダイオードのみをフィルタリングします。ゲルマニウム、シリコン、ヒ素ガリウム、石英など多くの基材と互換性があります。1600-55Mには、フォトレジストの開発モード、自動アライメントモード、複数の露出モード、画像調整モードという5つのユーザーフレンドリーな動作モードがあり、ユーザーが希望する設定を簡単に設定および校正することができます。フォトレジストの開発モードでは、パターニング前に基板を準備し、自動アライメントモードで基板を自動的に調整して正確な露出を行います。複数露光モードは、同じ基板上の異なるパターンの同時露光をサポートします。さらに、画像調整モードは、パターニングパラメータをより細かく制御します。VERTEQ 1600-55Mには、10 μ mまでのパターン分解能を提供するためのプログラム可能な精密スキャン機があります。精密な光学パターニングのための微調整ノブを備えたプログラム可能な焦点とプロット速度を備えています。マスク画像の正確な定義のための高解像度CCDカメラを搭載しています。また、1600-55Mにはマスクライブラリとリアルタイムのオートフォーカス機能が内蔵されており、露出ごとにツールを素早く簡単に設定できます。さらに、すべてのマスクが基板と正確に平行であることを保証するために、アセットにはレベリングモデルが装備されています。また、近接センサーなどの高度な安全機能を備えており、スキャンした画像が振動したり、ぼやけたりしないようにしています。さらに、ユーザプログラマブルなフォーマットと使いやすさと効率的な操作のためのユーザーフレンドリーなコントロールパネルを備えています。VERTEQ 1600-55M Photoresist Unitは、高解像度、高精度なフォトリソグラフィに最適なソリューションをユーザーに提供します。この堅牢なマシンは、さまざまなフォトレジストパターニングアプリケーションに最適です。