中古 UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 #293668925 を販売中

ユニバーサルフォトニクスMS-61466フォトレジスト装置は、カスタムフォトレジストパターンとコーティングを作成するための高度で高効率なシステムです。このユニットは、シリカ、ポリイミド、半導体、リソグラフィー等級のレジストなど、さまざまなカスタムのフォトレジストを作成するために使用できます。MS-61466マシンには、マイクロコントロールのフォトレジストコーティング&アプリケーションデバイス、200〜400nmの波長に非常に効率的な露光を提供する2つのUVユニット、および2つのベークオーブンが装備されています。このデバイスには、フォトレジストのパターンを確認するために使用できる2つのカメラがあります。このツールは、フォトリソグラフィープロセスの最高品質と精度のために設計されています。それは0。1 μ mから100 μ mまで及ぶ次元および16mm x 16mmの均一な抵抗の長さの注文のフォトレジストを作り出すことができます。UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466の高精度により、パターニング半導体コンポーネントや製造回路など、さまざまなリソグラフィ用途に適しています。フォトレジストは、溶剤なし、大面積の均一な応用化学分配技術を使用して適用されます。レジストが適用される前に、基板はOPCおよびRCP洗浄プロセスで処理され、コートを配置できる完璧な基盤が確保されます。高精度のアプリケーションデバイスは、フォトレジストの厚さとパターンを均一にし、スプレッドを最小限に抑えます。MS-61466アセットで使用される2つのUVユニットは、10分までの長い露光時間を提供し、パターニングプロセスを正確に制御できます。このモデルは、ユニフォームレジストパネルの生産だけでなく、カスタムレジストパターンのために設計されています。高精度のベーキングオーブンにより、フォトレジストの均一で信頼性の高い硬化を保証します。UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 Photoresist Equipmentは、さまざまなフォトリソグラフィープロセスのための高度で効率的なソリューションです。それは均一で、正確なコーティングおよびパターン、およびパターン処理の精密な制御を保障する長い露出時間を提供します。幅広いリソグラフィ用途に適した信頼性の高いシステムです。