中古 ULTRA OPTICS Mini II #9218885 を販売中

ULTRA OPTICS Mini IIは、UVや可視光源からの光を利用して半導体材料のリソグラフィーパターンを作成するフォトレジスト機器です。このシステムは、研究開発ラボで使用するために設計されており、半導体ウェーハ上のマイクロパターンおよびナノスケールパターンを作成するために使用することができます。このユニットは、光源にさらされた場所でのみ化学反応を起こすことを可能にする光感受性材料であるフォトレジストを使用しています。フォトレジストをウェーハ表面に塗布し、マスクで露出します。マスクは、希望するリソグラフィーパターンを含む金属またはSiO2パターンです。露出後、ウェーハは希望のパターンを明らかにするために開発されます。Mini IIは、幅広いリソグラフィーパターンを露出することができ、最大8インチの基板サイズをサポートすることができます。180nmから448nmまでの複数のレーザー光源を使用しており、異なる波長を素早く切り替えることができます。これにより、機械はさまざまな解像度のリソグラフィープロジェクトに使用できます。このツールはまた、迅速かつ簡単に読み取りを可能にする液晶ディスプレイを備えています。これにより、露出レベルが正しく、正しいパターンが生成されることが保証されます。ULTRA OPTICS Mini IIは、品質を犠牲にすることなく比較的高速なパターンを作成できる信頼性の高い資産です。迅速で正確なリソグラフィーパターンを必要とする研究開発ラボに最適です。このモデルはさまざまなフォトレジストで使用でき、解像度の異なる異なるプロジェクトに使用できます。