中古 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9251833 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300は、基板表面にマイクロスケールとナノスケールパターンを堆積させるための高度で特殊なフォトレジスト装置です。集積回路などのデバイスの製造に使用するために特別に設計されており、パターンの堆積には高度な精度が必要です。TEL NS 300は、コンピュータ制御システム、ビームスキャナ、電子ビームガンの3つの主要コンポーネントで構成されています。コンピュータコントロールユニットは、電子ビームを連続またはステップ運動で方向付けおよびスキャンし、フォトレジスト蒸着パターンを制御するビームスキャナを制御する責任があります。電子ビームガンは、高精度の電子ビームを生成する高強度デバイスです。この電子ビームは、フォトレジストが堆積する基板表面に向けられます。TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Machineは、汎用性の高い高精度機能化機能を提供します。ビームまたは表面パターン特性の欠陥を検出できるインテリジェントなフィードバックメカニズムを備えています。これにより、ユーザーはビーム方向とエネルギーを調整して、所望のパターンが生成されることを確認できます。このツールには、より汎用性の高い堆積能力を提供するために、1次元レイアウトと2次元レイアウトの両方を含む、さまざまなパターンエンコーディングスキームが装備されています。TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Assetは、高度な機能に加え、経済的で高解像度のコーティングプロセスも提供します。これは、基板表面に薄い層を堆積させることで、基板表面に優れた接着性を発揮するためです。モデルの高効率のため、プロセスのコストが最小限に抑えられます。TEL NS300 Photoresist Equipmentは、フォトリソグラフィック技術を使用したデバイスの製造に不可欠なコンポーネントを提供する先進的なプラットフォームです。汎用性の高い機能性と費用対効果の高い高解像度コーティングプロセスにより、信頼性と効率性に優れています。