中古 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9386549 を販売中
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ID: 9386549
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
(4) Spin bodies
Power box
Chemical box
Temperature control unit
T and H (Auxiliary part)
Chuck, 6"
Transfer arm
Centering alignment
Index:
(2) Load ports
25-Slots mapping
Spin coater:
(2) Resist nozzles
PR Nozzle temperature control
Dummy dispense system
Vacuum chuck
Resist suck back
Back rinse nozzle
EBR Nozzle rinse
IWAKI Bellows pump
EBR Back flow meter
Upper and lower cup
Exhaust: Auto damper
Facility drain line
Nozzle moving: Stepping motor
Temperature and Humidity Controller (THC) Coater chamber
Spin motor:
AC Servo motor: 0-5000 RPM, ±2 RPM
Maximum: 5000 RPM
(2) Spin developer:
Develop nozzle temperature control
Vacuum chuck
DI Rinse
Back rinse nozzle
Upper and lower cup
Developer flow meter
Back rinse nozzle
DI Rinse
(4) Hot plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Program time: 0 ~ 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
(3) Cooling plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Range: 15°C - 35°C
AD Plate, 6"
PID
PT Temperature sensor
HMDS Vapor chamber cover
HMDS Bubbling tank
Program time: 0 - 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
Chemical cabinet:
Photo resist system
Bottle (1 Gal): Trap tank, (2) Nozzles
HMDS Tank: 2.5 L
Thinner: Canister (5 GL)
Developer: Canister (5GL)
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vzは、最先端の正負フォトレジスト技術を搭載したフォトレジスト機器です。このシステムにより、高解像度の半導体互換設計をはじめとする様々な用途に対応したレジストの開発が可能になります。特許取得済みのTEL MARK-VZは、ナノメートル範囲のパターンを正確に形成することができます。プラットフォーム上に任意のサイズのサンプルを配置できる基板ホルダーを備えています。そのカバレッジ領域は、巨大なウェーハに対応するのに十分であり、基板ステージの精度は正確な位置決めを保証します。TOKYO ELECTRON MARK V-Zには、ノーベル賞を受賞したガウス照明ビームと適応可能なフォーカスポジションを備えた露出ヘッドも内蔵しています。これにより、より高い精度と最適な露出整合性が可能になります。リソグラフィでは、MARK V-ZのPATMAX機能がパターン精度を保証します。最新の進化アルゴリズムを使用して、可能な限り最高の結果を生み出します。このマシンには、手動ステップを削減し、時間を短縮し、全体的な効率を向上させる自動キャリブレーションや自動解決などの機能も含まれています。さらに、乾燥した高反射光源は、HRI独自の超対称反射鏡（SHR）を備えており、既存システムの最大88倍の光エネルギーを実現しています。これにより、露出分解能が向上し、処理時間が大幅に短縮されます。また、光学系は最適化された均一性を提供し、MARK-VZはウェーハ洗浄やエッチングなどの高度なリソグラフィーおよびバックエンドプロセスの両方に最適です。このツールはCENTRALソフトウェアスイートを統合しており、露出プロセスを簡単に制御し、マシンの設定にアクセスできます。また、進捗評価用の3Dビューを提供し、高度な操作を可能にします。最大4つの露出システムの管理をサポートするCENTRALは、最高の露出精度を保証します。TELの新しいフォトレジスト資産は、最新の技術とアルゴリズムを活用して、驚異的な精度と効率を実現しています。強力なドライオプティクスと高度な制御のためのソフトウェアスイートを備えたMARK Vzは、最も要求の厳しい半導体アプリケーションに最適なフォトレジストモデルです。
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