中古 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9205494 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vzフォトレジスト装置は、精密なミクロンスケールの機能を大規模に統合できるリソグラフィーソリューションです。このシステムは、高度なウェーハおよびデバイス製造施設での使用に適しており、優れた登録アライメントにより、大面積アスペクト比の機能を確実にパターン化することができます。TEL MARK-VZユニットは、高度なウェーハ設計と製造の要件を満たすように設計されています。シリコンウェーハ、Si-LDI（シリコンレイヤーダイレクトイメージング）、および優れた速度と精度の複合材料への応用に優れています。東京エレクトロンマークV-Zフォトレジストツールは、専用のスキャンステージ、スキャナ、フォトレジストプロセッサで構成されています。スキャンステージは、2つの立方垂直ステージ、六角形アライメントステージ、マルチセグメントステージで構成されています。ステージ構成は、スキャン中のレイアウトと位置決め精度を最適化するように設計されており、PMOSとNMOS構造間の効率的なオーバーレイを可能にします。TEL MARK Vzフォトレジストアセットには、レーザダイオードソーススキャナが搭載されています。このスキャナは、高出力レーザービームを使用して、パターン化された基板上の大きなアスペクト比フィーチャーを正確にパターン化します。スキャナは超精密で歪みのない露出を提供し、非常にきれいで均一な画像を提供します。TEL MARK V-Zフォトレジストモデルは、濡れた状態や乾燥した状態でも優れた化学的精度を発揮するプロセッサを搭載しています。このプロセッサは、開発が困難な基板の処理に一貫したデータと高感度を提供するように設計されています。このプロセッサは、露出後のベーク（PEB）レベルと高度なリソグラフィアルゴリズムを提供することもできます。TOKYO ELECTRON MARK Vzフォトレジスト装置は、極めて精密な機能を必要とする高度な技術環境での使用に最適です。プロトンおよび電子ビームリソグラフィ用の費用対効果の高いソリューションを提供し、さまざまなプロセスで高品質のパターニングを可能にします。また、お客様固有のニーズに合わせてさまざまな構成でご利用いただけます。