中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226369 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipmentは、デバイス製造用の高感度材料の大量生産を容易にするための最先端の統合プラットフォームです。TEL独自のインライン基板加工技術と高度な光学キャプチャ技術を組み合わせ、大量生産を実現しています。このシステムは、その優れた均一性と優れたプロファイル制御で知られています。TEL Mark Vフォトレジストユニットは、マスクとフォトレジストの高いアライメント精度を確保するため、東京エレクトロンの最先端の真空マスク放射技術を採用しています。露光処理を改善することで、フォトレジストとマスクパターンの高精度なアライメントが可能になります。TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Machineは、0。25micronまでの分解能で露光時間が8msも低く、ファインピッチデバイスの製造が可能です。このシステムには、リニアモータ内蔵の光学制御ツールも搭載されています。このアセットは、低歪みアクチュエータを使用して、マスク、ウェーハ、プロジェクションオプティクス間の正確なアライメントを維持します。これにより、マスクからフォトレジストへのパターンの正確な転送が保証されます。さらに、TEL MARK-Vフォトレジストモデルには、完全に自動化されたアライメントと露出装置が含まれており、迅速かつ簡単なメンテナンスとセットアップが可能です。このシステムは、高いクロストラックの均一性レベルを提供し、高い反復性と一貫した結果を得ることができます。さらに、Dynamic Pattern Tuning （DPT）およびDynamic Focus Control （DFC）技術を採用し、露光ごとに最高の解像度を保証します。TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Machineは、フォトレジストの低温活性化と湿式洗浄を可能にするとともに、パターンの損傷リスクを最小限に抑えます。このツールの開発により、汚染レベルの低減、スループットの向上、製品の均一性の向上、ユーザー満足度の向上が可能になりました。全体として、MARK-V Photoresist Assetは、ファインピッチデバイスの一貫した正確な製造のための比類のないレベルのパフォーマンスを提供するように設計されています。それは敏感な材料の大量生産のための完全な解決です。さらに、メンテナンスやセットアップを容易にするとともに、デバイス製造プロセスの安全性と制御を向上させます。